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1. (WO1998002596) SYSTEME DE REVETEMENT SOUS VIDE COMPORTANT UNE CHAMBRE DE REVETEMENT ET AU MOINS UNE CHAMBRE DE SOURCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/002596    N° de la demande internationale :    PCT/EP1997/003653
Date de publication : 22.01.1998 Date de dépôt international : 10.07.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.12.1997    
CIB :
C23C 14/28 (2006.01), C23C 14/32 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01)
Déposants : BAYERISCHE MOTOREN WERKE AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Patentabteilung AJ-3, D-80788 München (DE) (Tous Sauf US).
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. MÜNCHEN [DE/DE]; Leonrodstrasse 54, D-80636 München (DE) (Tous Sauf US).
SCHEIBE, Hans-Joachim [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GIERSCH, Daniela [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHALAUSKY, Robert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MIELSCH, Götz [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHEIBE, Hans-Joachim; (DE).
GIERSCH, Daniela; (DE).
SCHALAUSKY, Robert; (DE).
MIELSCH, Götz; (DE)
Mandataire : BÜCKEN, Helmut; Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft, Patentabteilung AJ-3, D-80788 München (DE)
Données relatives à la priorité :
196 28 102.4 12.07.1996 DE
Titre (DE) VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE MIT EINER BESCHICHTUNGSKAMMER UND ZUMINDEST EINER QUELLENKAMMER
(EN) VACUUM COATING SYSTEM WITH A COATING CHAMBER AND AT LEAST ONE SOURCE CHAMBER
(FR) SYSTEME DE REVETEMENT SOUS VIDE COMPORTANT UNE CHAMBRE DE REVETEMENT ET AU MOINS UNE CHAMBRE DE SOURCE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung insbesondere für einen lasergesteuerten Vakuum-Bogenentladungsverdampfer zur Abscheidung von Multischichten mit hoher Reinheit und hohen Abscheideraten auf großflächigen Bauteilen. Erfindungsgemäß befindet sich die Materialquelle für das Beschichtungsmaterial in einer Quellenkammer, die für sich evakuierbar ist und vakuumdicht von der eigentlichen Beschichtungskammer, in der sich das zu beschichtende Substrat befindet, trennbar ist. Der Verdampfer kann insbesondere für die Abscheidung wasserstofffreier superharter amorpher und/oder Wasserstoff enthaltender amorpher Kohlenstoffschichten in Kombination mit hochreinen Metallschichten oder für die reaktive plasmagestützte Abscheidung von z.B. oxidischen, karbidischen, nitridischen u.a. Hartstoff- bzw. keramischen Schichten oder deren Kombination eingesetzt werden. Die entsprechenden Plasmaquellen können beliebig an geeignete Beschichtungskammern angeflanscht und somit auch mit herkömmlichen Beschichtungsverfahren, z.B. Magnetronsputtern, kombiniert werden.
(EN)The invention relates to a device, in particular for a laser-induced vacuum arc discharge evaporator for depositing of multiple layers with a high level of purity and high deposition rates on large-area components. According to the invention, the material source for the coating material is in a source chamber which can be evacuated and can be separated in a vacuum-tight manner from the actual coating chamber in which the substrate to be coated is located. The evaporator can, in particular, be used for deposition of amorphous carbon layers which are hydrogen-free and superhard and/or which contain hydrogen, in conjunction with high-purity metal layers or for the reactive plasma-enhanced deposition of, for example, oxidic, carbide, nitride hard material layers or ceramic layers or a combination thereof. The corresponding plasma sources can be flange-mounted on any suitable coating chambers and, consequently, also combined with conventional coating processes, for example magnetron sputtering.
(FR)L'invention concerne un dispositif destiné notamment à un évaporateur à régime d'arc sous vide piloté par laser pour déposer des couches multiples, de grande pureté et avec une vitesse de dépôt élevée, sur des composants à grande surface. La source de matière destinée au matériau de revêtement se trouve dans une chambre de source qui se prête au vide et peut être séparée, de manière étanche au vide, de la chambre de revêtement proprement dite dans laquelle se trouve le substrat à revêtir. L'évaporateur peut notamment être utilisé pour le dépôt de couches carbonées amorphes dépourvues d'hydrogène et extra-dures et/ou contenant de l'hydrogène, conjointement avec des couches métalliques de haute pureté, ou bien pour le dépôt réactif, enrichi au plasma, par exemple de couches de matériau dur obtenues par voie d'oxydation, de carburation, de nitruration, ou bien de couches céramiques ou encore d'une combinaison des deux. Les sources de plasma correspondantes peuvent être raccordées au choix aux chambres de revêtement appropriées et, ainsi, également associées aux procédés de revêtement classiques, par exemple la pulvérisation magnétron.
États désignés : US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)