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1. (WO1998001896) APPAREIL DE LAVAGE ET PROCEDE DE LAVAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/001896    N° de la demande internationale :    PCT/JP1997/002311
Date de publication : 15.01.1998 Date de dépôt international : 03.07.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.02.1998    
CIB :
B08B 3/02 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : ULTRACLEAN TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE [JP/JP]; 1-4, Hongo 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 113 (JP) (Tous Sauf US).
MIKI, Nobuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NITTA, Takahisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HARADA, Yasuyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIKI, Nobuhiro; (JP).
NITTA, Takahisa; (JP).
HARADA, Yasuyuki; (JP).
OHMI, Tadahiro; (JP)
Mandataire : FUKUMORI, Hisao; 2F Fuji Building, 5-11, Kudanminami 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 102 (JP)
Données relatives à la priorité :
8/174005 03.07.1996 JP
8/211557 09.08.1996 JP
Titre (EN) WASHING APPARATUS AND WASHING METHOD
(FR) APPAREIL DE LAVAGE ET PROCEDE DE LAVAGE
Abrégé : front page image
(EN)A washing apparatus and a washing method, which further improve a washing effect and enable highly clean washing with a small amount of chemical. Also, it is an object of the invention to provide a washing apparatus of high throughput involving rapid switching of various chemicals of high responsibility and capable of performing a series of washing operations at high speed. The washing apparatus comprises undiluted cleaning liquid injection means for injecting an undiluted solution or undiluted gas of a cleaning liquid into a ultrapure water channel to make a cleaning liquid of a desired concentration, cleaning liquid supplying means connected to the super demineralized water channel for simultaneously supplying front and rear surfaces of a substrate with a cleaning liquid adjusted to a desired concentration or a ultrapure water, means for superposing ultrasonic wave or high frequency sound waves of 0.5 MHz or more on the substrate through the cleaning liquid, and means for rotating the substrate or means for moving either of the substrate and the cleaning liquid supplying means in one direction, whereby injection of the undiluted solution or undiluted gas into the ultrapure water channel is controlled to continuously perform washing of the substrate by the cleaning liquid and washing by the ultrapure water.
(FR)Cette invention concerne un appareil de lavage et un procédé de lavage, qui améliorent les résultats de lavage et permettent un lavage très performant avec une faible quantité de produits chimiques. L'invention se rapporte également à un appareil de lavage de grande capacité mettant en jeu un changement rapide de divers produits chimiques de grande efficacité, ledit appareil étant capable d'exécuter une série d'opérations de lavage à grande vitesse. Ledit appareil de lavage comporte un organe d'injection du liquide détergent non dilué qui permet d'injecter une solution non diluée ou du gaz non dilué d'un liquide détergent à l'intérieur d'une voie d'écoulement d'eau ultrapure en vue de l'obtention d'un liquide détergent de concentration souhaitée, un organe d'alimentation en liquide détergent relié à la voie d'écoulement de l'eau très déminéralisée qui permet d'amener vers les surfaces avant et arrière d'un support un liquide détergent dilué de façon à présenter la concentration souhaitée ou de l'eau ultrapure, un organe conçu pour appliquer des ultrasons ou des ondes sonores à une fréquence élevée supérieure ou égale à 0,5 MHz sur le support à travers le liquide détergent, et enfin un organe conçu pour faire tourner le support ou un organe conçu pour déplacer soit le support soit l'organe d'alimentation en liquide détergent suivant une direction. Dans cet appareil, l'injection de solution non diluée ou de gaz non dilué à l'intérieur de la voie d'écoulement de l'eau ultrapure est régulée de manière à permettre, en continu, un lavage du support par le liquide détergent et un lavage par l'eau ultrapure.
États désignés : JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)