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1. (WO1998001893) DISPOSITIF ET PROCEDE POUR PRODUIRE UN PLASMA INDUCTIF HAUTE DENSITE MULTIZONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/001893    N° de la demande internationale :    PCT/US1997/012243
Date de publication : 15.01.1998 Date de dépôt international : 09.07.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.02.1998    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : CVC PRODUCTS, INC. [US/US]; 525 Lee Road, Rochester, NY 14603 (US)
Inventeurs : MOSLEHI, Mehrdad, M.; (US)
Mandataire : FELGER, Thomas, R.; Baker & Botts, L.L.P., 2001 Ross Avenue, Dallas, TX 75201-2980 (US)
Données relatives à la priorité :
08/678,065 10.07.1996 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR MULTI-ZONE HIGH-DENSITY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA GENERATION
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE POUR PRODUIRE UN PLASMA INDUCTIF HAUTE DENSITE MULTIZONE
Abrégé : front page image
(EN)A multi-zone high-density inductively-coupled plasma source includes a first individually controlled RF antenna segment for producing a plasma from a process gas. A second individually controlled coil segment is included in the ICP source for producing a plasma from a process gas. In various embodiments, more than two sets of individually controlled coil segments may be used. In one embodiment, a separate power supply may be used for each coil segment individually. Another aspect of this invention is a hermetically-sealed inductively-coupled plasma source structure and method of fabrication which eliminates the possibility of process contamination, improves the source hardware reliability and functionality, and improves the vacuum integrity and ultimate base pressure of the plasma system.
(FR)Générateur de plasma inductif haute densité multizone composé d'un premier segment d'antenne H.F. à commande individuelle pour produire un plasma à partir d'un gaz. Un second segment de bobine à commande individuelle est inclus dans le générateur de plasma inductif pour produire un plasma à partir d'un gaz. Diverses versions de l'invention utilisent plus d'un ensemble de segments de bobine à commande individuelle. Dans une des variantes, on utilise une source énergétique individuelle pour chaque segment. L'invention porte également sur une structure génératrice de plasma inductif hermétiquement close et sur un procédé de fabrication qui élimine le risque de contamination pendant la fabrication, améliore la fiabilité et le fonctionnement du matériel générateur, améliore le maintien en dépression ainsi que la pression maximale initiale du système de production de plasma.
États désignés : GB, JP, KR.
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)