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1. (WO1998000760) DISPOSITIF D'EXPOSITION POUR LITHOGRAPHIE ET PROCEDE DE LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/000760    N° de la demande internationale :    PCT/EP1997/003053
Date de publication : 08.01.1998 Date de dépôt international : 12.06.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.01.1998    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : DEUTSCHES ZENTRUM FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT [DE/DE]; E.V., D-53111 Bonn (DE) (Tous Sauf US).
INSTITUT FÜR MIKROELEKTRONIK STUTTGART (STIFTUNG DES ÖFFENTLICHEN RECHTS) [DE/DE]; Allmandring 30 a+c, D-70569 Stuttgart (DE) (Tous Sauf US).
BRAUCH, Uwe [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
OPOWER, Hans [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HÖFFLINGER, Bernd [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SPRINGER, Reinhard [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BRAUCH, Uwe; (DE).
OPOWER, Hans; (DE).
HÖFFLINGER, Bernd; (DE).
SPRINGER, Reinhard; (DE)
Mandataire : BECK, Jürgen; Hoeger, Stellrecht & Partner, Uhlandstrasse 14 c, D-70182 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
196 26 176.7 29.06.1996 DE
Titre (DE) LITHOGRAPHIE-BELICHTUNGSEINRICHTUNG UND LITHOGRAPHIE-VERFAHREN
(EN) LITHOGRAPHY EXPOSURE DEVICE AND LITHOGRAPHY PROCEDURES
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION POUR LITHOGRAPHIE ET PROCEDE DE LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(DE)Um eine Lithographie-Belichtungseinrichtung umfassend eine Aufnahme (38) für ein Substrat (36), eine Belichtungseinheit (10, 12, 14, 16) zur Erzeugung eines Lichtflecks auf der lichtempfindlichen Schicht (34) des Substrats, eine Bewegungseinheit (40) zur Erzeugung einer Relativbewegung zwischen der Belichtungseinheit und der Aufnahme und eine Steuerung zur Intensitäts- und Lagesteuerung des Lichtflecks auf der lichtempfindlichen Schicht zu schaffen, mit welcher mittels Lithographie mit grosser Effizienz kleine Strukturen in kurzen Zeiträumen herstellbar sind, wird vorgeschlagen, dass die Belichtungseinheit eine Vielzahl von Halbleiterlasern (10) umfasst, dass die Strahlführungsoptik (16) die Laserstrahlung jedes Halbleiterlasers zu einem Lichtfleck eines definierten Lichtfleckmusters führt und dass das gesamte Lichtfleckmuster und die Aufnahme in einer Belichtungsbewegungsrichtung relativ zueinander bewegbar und dabei die Lichtflecken des Lichtfleckmusters entsprechend der Form der zu belichtenden Teilbereiche aktivierbar oder deaktivierbar sind.
(EN)To create a lithography exposure device comprising a retainer (38) for a substrate (36), an exposure unit (10, 12, 14, 16) for producing a light spot on the light-sensitive layer (34) of the substrate, a motion unit (40) for producing apparent motion between the exposure unit and the retainer and a control unit for controlling the intensity and position of the light spot on the light-sensitive layer, with which device one can more effectively produce small structures within a short time by lithography, the invention proposes that the exposure unit comprises a plurality of solid-state lasers (10), that the focusing unit (16) guides the laser beam of each solid-state laser to a light spot of a defined light spot pattern and that the entire light spot pattern and the retainer are displaceable relative to each other in an exposure motional direction and that the light spots of the light spot pattern which correspond to the form of the partial areas to be exposed can be activated or deactivated.
(FR)L'objectif de l'invention est de créer un dispositif d'exposition qui permette de produire par lithographie des petites structures, très rapidement et avec un rendement élevé. Ce dispositif comprenant un support (38) destiné à un substrat (36), une unité d'exposition (10, 12, 14, 16), qui produit une tache lumineuse sur la couche photosensible (34) du substrat, une unité d'entraînement (40), qui provoque un déplacement relatif entre l'unité d'exposition et le support, et un organe de commande, qui règle l'intensité et la position de la tache lumineuse sur la couche photosensible. Pour qu'il soit possible d'atteindre l'objectif de l'invention, l'unité d'exposition est constituée d'une pluralité de lasers à semi-conducteur (10); l'optique de focalisation (16) amène le faisceau émis par chaque laser à semi-conducteur sur une tache lumineuse d'un motif de taches lumineuses prédéfinie; l'ensemble du motif de taches lumineuses et le support peuvent être déplacés l'un par rapport à l'autre dans la direction du déplacement d'exposition; et les taches lumineuses du motif correspondant à la forme des zones partielles à exposer peuvent être activées ou désactivées.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)