WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1998000577) PROCEDE ET APPAREIL POUR FAIRE CIRCULER DES GAZ DANS UN COLLECTEUR A HAUTE TENSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1998/000577    N° de la demande internationale :    PCT/US1997/011574
Date de publication : 08.01.1998 Date de dépôt international : 27.06.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.01.1998    
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/509 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : BERRIAN, Donald, W. [US/US]; (US).
KAIM, Robert [US/US]; (US).
POLLOCK, John, D. [US/US]; (US)
Inventeurs : BERRIAN, Donald, W.; (US).
KAIM, Robert; (US).
POLLOCK, John, D.; (US)
Mandataire : VOCK, Curtis, A.; Lappin & Kusmer LLP, 200 State Street, Boston, MA 02109 (US)
Données relatives à la priorité :
08/674,444 02.07.1996 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR FLOWING GASES INTO A MANIFOLD AT HIGH POTENTIAL
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR FAIRE CIRCULER DES GAZ DANS UN COLLECTEUR A HAUTE TENSION
Abrégé : front page image
(EN)A reactor (50) for plasma CVD or plasma etch is provided with a first electrode (56) held to ground potential which supports the workpiece (58), e.g., a semiconductor wafer. A second electrode (62) is spaced from the first electrode to form a gap therebetween, and has an electrical potential suitable to form an ionizing electrical field within the gap. The second electrode also has a gas inlet (66) and a gas outlet (68). Preferably, the gas outlet includes a plurality of gas outlets. The reactor includes a porous plug (80) constructed and arranged with the gas inlet to isolate the second electrode from ground potential. This plug has a plurality of pores which are sized to permit passage of gas therethrough and to substantially inhibit electrical discharge therein. Accordingly, gas injected through the gas inlet of the second electrode passes through the plug without ionization; and that gas thereafter exits from the gas outlet to provide substantially uniform ionization within the gap. Multiple gases and porous plugs can be used in tandem to mix and provide uniform plasma generation. A metal tube, substantially at ground potential, connects directly to the reactor and adjacent to the porous plug to provide a sturdy conduit for gases injected into the reactor and into regions of high potential.
(FR)L'invention concerne un réacteur (50) pour réaliser un dépôt par plasma ou une attaque au plasma ayant une première électrode (56) connectée au potentiel de terre et servant de support à la pièce à travailler (58) (c'est-à-dire une plaque semiconductrice). Une deuxième électrode (62) située à distance de la première électrode et séparée de cette dernière par un espace interélectrode a un potentiel électrique suffisant de cette dernière par un espace interélectrode a un potentiel électrique suffisant pour former un champ électrique ionisé à l'intérieur de l'espace interélectrode. Ladite deuxième électrode comporte également un orifice d'admission de gaz (66) et une sortie de gaz (68). De préférence, la sortie de gaz est constituée de plusieurs orifices. Le réacteur comprend un tampon poreux (80) façonné et adapté à l'orifice d'admission de gaz de manière à isoler la deuxième électrode du potentiel de terre. Le tampon a une pluralité de pores dimensionnées pour servir de passage au gaz et pour empêcher sensiblement que des décharges électriques s'y produisent. Ainsi, le gaz injecté par l'orifice d'admission de gaz de la deuxième électrode passe à travers le tampon sans être ionisé, puis sort par la sortie de gaz pour subir à l'intérieur de l'espace interélectrode une ionisation sensiblement uniforme. De nombreux gaz et tampons poraux peuvent être utilisés en tandem et mélangés pour produire un plasma uniforme. Un tube métallique, maintenu sensiblement au potentiel de terre, est directement fixé sur le réacteur à proximité du tampon poreux et constitue par les gaz injectés dans le réacteur un conduit robuste vers des plages de haute tension.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)