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1. WO1997043696 - PROCEDES POUR AUGMENTER LA SENSIBILITE D'EXPOSITION DE MATRICES PHOTOPOLYMERIZABLES ET DISPOSITIF UTILE POUR CES PROCEDES

Numéro de publication WO/1997/043696
Date de publication 20.11.1997
N° de la demande internationale PCT/US1997/007789
Date du dépôt international 06.05.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 08.12.1997
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/2022
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
Déposants
  • NAPP SYSTEMS, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • MUELLER, Gregory, E.
  • MALE, Mitch, G.
  • ROBERTS, David, H.
Mandataires
  • REITER, Stephen, E.
Données relatives à la priorité
08/650,92016.05.1996US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS TO INCREASE THE EXPOSURE SENSITIVITY OF PHOTOPOLYMERIZABLE MATRICES AND APPARATUS USEFUL THEREFOR
(FR) PROCEDES POUR AUGMENTER LA SENSIBILITE D'EXPOSITION DE MATRICES PHOTOPOLYMERIZABLES ET DISPOSITIF UTILE POUR CES PROCEDES
Abrégé
(EN)
In accordance with the present invention, there are provided methods to substantially increase the effective exposure sensitivity of photopolymerizable materials without chemical modification thereof. This is accomplished by subjecting such materials to a relatively low energy pre-exposure prior to subjecting such materials to the main imaging exposure. Increase in the effective exposure sensitivity of photopolymerizable materials provides improved image quality in the exposed matrix and allows increased exposure speeds to be employed. In accordance with another aspect of the present invention, there are provided imaging apparatus useful for carrying out the above-described process. Invention apparatus enable one to increase the effective exposure sensitivity of photopolymerizable materials.
(FR)
Procédés pour augmenter substantiellement la sensibilité d'exposition effective de matériaux photopolymérisables sans modification chimique de ces derniers. Ce résultat est obtenu en soumettant ces matériaux à une pré-exposition avec une énergie relativement faible avant de les soumettre à l'exposition principale formatrice d'images. L'augmentation de la sensibilité d'exposition effective des matériaux photopolymérisables permet d'obtenir une qualité d'image améliorée sur la matrice exposée et autorise l'emploi de plus grandes vitesses d'exposition. L'invention concerne également un appareil pour la formation d'images utile pour appliquer le procédé décrit ci-dessus. Ce dispositif permet d'accroître la sensibilité d'exposition effective de matériaux photopolymérisables.
Également publié en tant que
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