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1. WO1997021330 - PROCEDE DEPENDANT DE DECHARGES DE PLASMA SOUTENUES PAR COUPLAGE INDUCTIF

Numéro de publication WO/1997/021330
Date de publication 12.06.1997
N° de la demande internationale PCT/US1996/019259
Date du dépôt international 03.12.1996
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 05.06.1997
CIB
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H05H 1/46 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
46utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
CPC
H01J 37/321
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
321the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
H05H 1/46
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Déposants
  • FLAMM, Daniel, L. [US]/[US]
Inventeurs
  • FLAMM, Daniel, L.
Mandataires
  • OGAWA, Richard, T.
Données relatives à la priorité
08/567,22404.12.1995US
null18.11.1996US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PROCESS DEPENDING ON PLASMA DISCHARGES SUSTAINED BY INDUCTIVE COUPLING
(FR) PROCEDE DEPENDANT DE DECHARGES DE PLASMA SOUTENUES PAR COUPLAGE INDUCTIF
Abrégé
(EN)
A process for fabricating a product. The process comprises the steps of subjecting a substrate (28) to a composition of entities, at least one of the entities emanating from a species generated by a gaseous discharge excited by a high frequency field in which the vector sum of currents to phase (23) and inverse-phase (27) capacitive coupled voltages from the inductive coupling structure (20) can be selectively maintained.
(FR)
Procédé servant à fabriquer un produit. Ce procédé consiste à soumettre un substrat (28) à une composition d'entités, dont au moins une émane d'une espèce générée par une décharge gazeuse excitée par un champ haute fréquence dans lequel la somme vectorielle de courants par rapport à des tensions à couplage capacitif de phase et de phase (23) inversée (27) provenant de la structure (20) de couplage inductif peut être maintenue de façon sélective.
Également publié en tant que
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