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1. (WO1997014176) SUSPENSION COLLOIDALE DE NANOPARTICULES SEMI-CONDUCTRICES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/1997/014176 N° de la demande internationale : PCT/US1996/015286
Date de publication : 17.04.1997 Date de dépôt international : 24.09.1996
CIB :
C30B 7/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
30
CROISSANCE DES CRISTAUX
B
CROISSANCE DES MONOCRISTAUX; SOLIDIFICATION UNIDIRECTIONNELLE DES MATÉRIAUX EUTECTIQUES OU DÉMIXTION UNIDIRECTION- NELLE DES MATÉRIAUX EUTECTOÏDES; AFFINAGE DES MATÉRIAUX PAR FUSION DE ZONE; PRODUCTION DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; MONOCRISTAUX OU MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; POST-TRAITEMENT DE MONOCRISTAUX OU DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; APPAREILLAGES À CET EFFET
7
Croissance des monocristaux à partir de solutions en utilisant des solvants liquides à la température ordinaire, p.ex. à partir de solutions aqueuses
Déposants : MIDWEST RESEARCH INSTITUTE[US/US]; 425 Volker Boulevard Kansas City, MO 64110, US
Inventeurs : SCHULZ, Douglas, L.; US
PEHNT, Martin; DE
CURTIS, Calvin, J.; US
GINLEY, David, S.; US
Mandataire : RICHARDSON, Ken; National Renewable Energy Laboratory 1617 Cole Boulevard Golden, CO 80401, US
Données relatives à la priorité :
08/535,98129.09.1995US
Titre (EN) SEMICONDUCTOR NANOPARTICLE COLLOIDS
(FR) SUSPENSION COLLOIDALE DE NANOPARTICULES SEMI-CONDUCTRICES
Abrégé :
(EN) A substantially stable colloidal suspension comprising a plurality of semiconductor nanoparticles each capped with a volatile capping agent, and the preparation thereof. A colloidal suspension so defined can be employed as a source of substantially carbon-free semiconductor nanoparticles for semiconductor film growth. Preparation of the colloidal suspension comprises providing two salts reactable with each other to produce a semiconductor and reacting these two salts to produce semiconductor nanoparticles. Introduction of the volatile capping agent can occur either during nanoparticle synthesis or after nanoparticle synthesis by appropriate exposure to and treatment of the nanoparticles by the volatile capping agent. The resulting nanoparticle precipitate is mixed with volatile capping agent to produce a mixture which is subjected to sonication and centrifugation for a time sufficient to produce a concentrated colloidal suspension thereafter diluted for subsequent deposition in the formation of a semiconductor film.
(FR) Suspension colloïdale sensiblement stable comprenant une pluralité de nanoparticules semi-conductrices coiffées chacune par un agent de coiffe volatil, ainsi que sa préparation. On peut utiliser cette suspension colloïdale en tant que source de nanoparticules sensiblement exemptes de carbone servant à effectuer la croissance de couches semi-conductrices. La préparation de cette suspension colloïdale consiste à mettre en réaction deux sels afin de produire des nanoparticules semi-conductrices. On peut introduire l'agent de coiffe volatil pendant ou après la synthèse des nanoparticules au moyen de l'exposition appropriée audit agent et du traitement des nanoparticules par ledit agent. On mélange le précipité obtenu de nanoparticules avec l'agent de coiffe volatil, afin d'obtenir un mélange qu'on soumet à un traitement ultrasonique et à une centrifugation pendant une durée suffisante pour obtenir une suspension colloïdale concentrée, qu'on dilue ensuite afin qu'elle se dépose ultérieurement pendant le processus de formation d'une couche semi-conductrice.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)