WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Options
Langue d'interrogation
Stemming/Racinisation
Trier par:
Nombre de réponses par page
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO1997014172) PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/1997/014172 N° de la demande internationale : PCT/US1996/016210
Date de publication : 17.04.1997 Date de dépôt international : 10.10.1996
CIB :
C23C 8/36 (2006.01) ,C23C 16/50 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
8
Diffusion à l'état solide uniquement d'éléments non métalliques dans la couche superficielle de matériaux métalliques; Traitement chimique de surface par réaction entre le matériau métallique de la surface et un gaz réactif, laissant dans le revêtement des produits de la réaction, p.ex. revêtement de conversion, passivation des métaux
06
au moyen de gaz
36
au moyen de gaz ionisés, p.ex. nitruration ionique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
50
au moyen de décharges électriques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants : HE HOLDINGS, INC., doing business as HUGHES ELECTRONICS[US/US]; 7200 Hughes Terrace Los Angeles, CA 90045-0066, US
GENERAL MOTORS CORPORATION[US/US]; Ypsilanti, MI 48198-6198, US
Inventeurs : WEI, Ronghua, R.; US
MATOSSIAN, Jesse, N.; US
MIKULA, Peter; US
CLARK, Deborah; US
Mandataire : DURAISWAMY, Vijayalakshmi, D. ; Hughes Electronics Patent Docket Administration Building C01/A126 P.O. Box 80028 Los Angeles, CA 90080-0028, US
Données relatives à la priorité :
543,86012.10.1995US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA PROCESSING
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé :
(EN) A plasma heating apparatus (20) for heating a workpiece (26) includes a chamber (22) of sufficient size to receive a workpiece (26) therein and a source of a reduced gas pressure within the chamber (22) of from about 0.01 to about 100 millitorr. The plasma heating apparatus (20) further includes a plasma source (40) of an enveloping plasma. Optionally, a workpiece voltage may be applied between the workpiece (26) and the wall (24) of the chamber (22), a source (34) of a reactive gas can be provided to backfill the chamber (22), and radiant heaters (25) can be provided to independently heat portions of the workpiece (26). In operation, the plasma source (40) produces a plasma that surrounds and heats the workpiece (26). The plasma and the heating of the workpiece (26) are tailored to achieve controllably uniform or nonuniform heat treatment and/or surface treatment of the workpiece (26). The apparatus (20) can be used to heat treat the workpiece (26) in vacuum, or a reactive gas such as a gaseous source of nitrogen, carbon, or boron can be backfilled into the chamber (22) to alter the surface chemistry of the workpiece (26).
(FR) Cette invention concerne un dispositif de chauffage au plasma (20) qui permet de chauffer une pièce à travailler (26). Ledit dispositif comporte une chambre (22) de taille suffisante pour y loger la pièce à travailler (26) ainsi qu'une source conçue pour créer à l'intérieur de la chambre (22) une pression gazeuse réduite comprise approximativement entre 0,01 et 100 millitorr. Le dispositif de chauffage au plasma (20) comporte également une source de plasma (40) conçue pour envelopper de plasma la pièce à travailler. Eventuellement, on peut appliquer une tension de polarisation entre la pièce à travailler (26) et la paroi (24) de la chambre (22), on peut utiliser une source (34) de gaz réactif pour remplir la chambre (22) et des éléments de chauffage rayonnants (25) pour chauffer, indépendamment, diverses parties de la pièce à travailler (26). En cours de fonctionnement, la source de plasma (40) produit un plasma qui enveloppe et chauffe la pièce à travailler (26). Le plasma et le chauffage de la pièce à travailler (26) sont spécialement conçus pour parvenir, par régulation, à un traitement chauffant uniforme ou non uniforme et/ou à un traitement de surface de la pièce à travailler (26). Ce dispositif (20) peut servir à traiter par la chaleur la pièce à travailler (26) sous vide, ou bien il peut permettre le remplissage de la chambre (22) avec un gaz réactif tel qu'une source gazeuse d'azote, de carbone ou de bore dans le but de modifier les propriétés chimiques de surface de la pièce à travailler (26).
États désignés : CA, IL, JP, KR, MX
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)