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1. (WO1997011587) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE D'UN FLUX D'IONS DANS UN PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1997/011587    N° de la demande internationale :    PCT/FR1996/001451
Date de publication : 27.03.1997 Date de dépôt international : 18.09.1996
CIB :
H01J 37/32 (2006.01), H05H 1/00 (2006.01)
Déposants : CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 15, quai Anatole-France, F-75700 Paris (FR) (Tous Sauf US).
BOOTH, Jean-Paul [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
BRAITHWAITE, Nicholas, St John [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : BOOTH, Jean-Paul; (FR).
BRAITHWAITE, Nicholas, St John; (FR)
Mandataire : MICHEL DE BEAUMONT; Cabinet Conseil, 1 bis, rue Champollion, F-38000 Grenoble (FR)
Données relatives à la priorité :
95/11181 19.09.1995 FR
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR MEASURING ION FLOW IN A PLASMA
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE D'UN FLUX D'IONS DANS UN PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A method for measuring an ion flow from a plasma towards a surface contacting same by measuring the discharge rate of a measuring capacitor (12) connected between an RF voltage source (13) and a plate-like probe (10) contacting the plasma.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure d'un flux d'ions provenant d'un plasma vers une surface en contact avec ce dernier, consistant à mesurer le taux de décharge d'un condensateur de mesure (12) connecté entre une source de tension radiofréquence (13) et une sonde (10) en forme de plaque en contact avec le plasma.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)