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1. (WO1997011100) FRACTIONNEMENT DE CONDENSAT DE PHENOL-FORMALDEHYDE ET COMPOSITIONS POUR PHOTORESIST PRODUITES SUR CETTE BASE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1997/011100    N° de la demande internationale :    PCT/US1996/014946
Date de publication : 27.03.1997 Date de dépôt international : 18.09.1996
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.04.1997    
CIB :
C08G 8/08 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01)
Déposants : CLARIANT INTERNATIONAL LTD. [US/CH]; Rothausstrasse 61, CH-4132 Muttenz (CH)
Inventeurs : RAHMAN, M., Dalil; (US).
AUBIN, Daniel, P.; (US).
KHANNA, Dinesh, N.; (US).
DIXIT, Sunit, S.; (US)
Mandataire : SAYKO, Andrew, F., Jr.; Clariant Corporation, 70 Meister Avenue, Somerville, NJ 08876 (US)
Données relatives à la priorité :
08/530,847 20.09.1995 US
Titre (EN) FRACTIONATION OF PHENOL FORMALDEHYDE CONDENSATE AND PHOTORESIST COMPOSITIONS PRODUCED THEREFROM
(FR) FRACTIONNEMENT DE CONDENSAT DE PHENOL-FORMALDEHYDE ET COMPOSITIONS POUR PHOTORESIST PRODUITES SUR CETTE BASE
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a water insoluble, aqueous alkali soluble, film forming novolak resin having low metal ions, made by the fractionation of a phenol formaldehyde condensation product, a process for producing a resin, a photoresist composition of superior quality containing such novolak resin, and a method for producing a semiconductor device using such photoresist composition.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'une résine de type novolaque filmogène, insoluble dans l'eau, soluble dans une solution alcaline aqueuse, et à faible teneur en ions métalliques. Cette résine s'obtient par fractionnement d'un produit de condensation de phénol-formaldéhyde. L'invention concerne également un procédé de production d'une composition pour photorésist de qualité supérieure contenant une telle résine de type novolaque. L'invention concerne enfin un procédé de production d'un dispositif à semi-conducteur utilisant une telle composition pour photorésist.
États désignés : CN, JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)