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1. (WO1997010698) DETECTEUR MICROMECANIQUE AVEC UNE ELECTRODE DU TYPE BANDE DE GARDE ET TECHNIQUE DE FABRICATION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1997/010698    N° de la demande internationale :    PCT/US1996/014131
Date de publication : 27.03.1997 Date de dépôt international : 03.09.1996
CIB :
G01P 15/08 (2006.01), G01P 15/125 (2006.01), G01P 15/13 (2006.01)
Déposants : THE CHARLES STARK DRAPER LABORATORY, INC. [US/US]; 555 Technology Square, Cambridge, MA 02139 (US)
Inventeurs : GREIFF, Paul; (US).
SOHN, Jerome, B.; (US)
Mandataire : GAGNEBIN, Charles, L., III; Weingarten, Schurgin, Gagnebin & Hayes L.L.P., Ten Post Office Square, Boston, MA 02109 (US)
Données relatives à la priorité :
08/523,401 05.09.1995 US
Titre (EN) MICROMECHANICAL SENSOR WITH A GUARD BAND ELECTRODE AND FABRICATION TECHNIQUE THEREFOR
(FR) DETECTEUR MICROMECANIQUE AVEC UNE ELECTRODE DU TYPE BANDE DE GARDE ET TECHNIQUE DE FABRICATION DE CELUI-CI
Abrégé : front page image
(EN)An electrostatically actuated micromechanical sensor (10) having a guard band electrode (30) for reducing the effect of transients associated with a dielectric substrate (12) of the sensor. A proof mass (14), responsive to an input, is suspended over the substrate and one or more electrodes (18, 20) are disposed on the substrate in electrostatic communication whith the proof mass to sense the input acceleration and/or to torque the proof mass back to a null position. A guard band electrode is disposed over the dielectric substrate in overlapping relationship with the electrodes and maintains the surface of the substrate at a reference potential, thereby shielding the proof mass from transients and enhancing the accuracy of the sensor. A dissolved wafer process for fabricating the micromechanical sensor is described in which the proof mass is defined by a boron doping step. An alternative fabrication technique is also described in which the proof mass is defined by an epitaxial layer.
(FR)L'invention concerne un détecteur (10) micromécanique actionné électrostatiquement ayant une électrode (30) du type bande de garde pour réduire les effets d'événements transitoires associés avec le substrat diélectrique (12) du détecteur. Une masse étalon (14), réagissant à une entrée, est suspendue au-dessus du substrat et une ou plusieurs électrodes (18, 20) sont disposées sur le substrat en communication électrostatique avec la masse étalon pour détecter l'accélération subie et/ou pour ramener la masse étalon par rotation vers sa position nulle. L'électrode du type bande de garde est placée au-desus du substrat diélectrique en chevauchant les électrodes et elle maintient la surface du substrat à un potentiel de référence, protégeant ainsi la masse étalon d'événements transitoires et améliorant la précision du détecteur. L'invention concerne, également, la fabrication du détecteur par un procédé d'attaque d'une tranche. Dans ce procédé, la masse étalon est obtenue par dopage au bore. L'invention concerne, également, une autre technique dans laquelle la masse étalon est constituée par une couche épitaxiale.
États désignés : CA, JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)