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1. (WO1997010199) PROCEDE DE NITRATION DE COMPOSES D'ETHER DIPHENYLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1997/010199    N° de la demande internationale :    PCT/GB1996/001892
Date de publication : 20.03.1997 Date de dépôt international : 06.08.1996
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.01.1997    
CIB :
C07C 201/08 (2006.01), C07C 205/38 (2006.01), C07C 205/59 (2006.01), C07C 303/40 (2006.01), C07C 311/51 (2006.01)
Déposants : ZENECA LIMITED [GB/GB]; 15 Stanhope Gate, London W1Y 6LN (GB) (Tous Sauf US).
BROWN, Stephen, Martin [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
MUXWORTHY, James, Peter [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : BROWN, Stephen, Martin; (GB).
MUXWORTHY, James, Peter; (GB)
Mandataire : ROBERTS, Alison, Christine; Zeneca Agrochemicals, Intellectual Property Dept., Jealott's Hill Research Station, P.O. Box 3538, Bracknell, Berkshire RG42 6YA (GB)
Données relatives à la priorité :
9518705.0 13.09.1995 GB
Titre (EN) PROCESS FOR NITRATING DIPHENYL ETHER COMPOUNDS
(FR) PROCEDE DE NITRATION DE COMPOSES D'ETHER DIPHENYLIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A process for the preparation of a compound of general formula (I) wherein R?1¿ is hydrogen or C¿1?-C¿6? alkyl, C¿2?-C¿6? alkenyl or C¿2?-C¿6? alkynyl (any of which may optionally be substituted with one or more substituents selected from halogen and OH) or COOH, COH, COOR?4¿, COR?6¿, CONR?4¿R?5¿ or CONHSO¿2?R?4¿; R?4¿ and R?5¿ are each independently hydrogen or C¿1?-C¿4? alkyl optionally substituted with one or more halogen atoms; R?6¿ is a halogen atom or a group R?4¿; R?2¿ is hydrogen or halo; R?3¿ is C¿1?-C¿4? alkyl, C¿2?-C¿4? alkenyl or C¿2?-C¿4? alkynyl, any of which may optionally be substituted with one or more halogen atoms, or halo; the process comprising reacting a compound of general formula (II) wherein R?1¿, R?2¿ and R?3¿ are as defined for general formula (I); with a nitrating agent comprising nitric acid or a mixture of nitric and sulphuric acids in the presence of an organic solvent and in the presence of acetic anhydride, characterised in that the molar ratio of acetic anhydride to compound of general formula (I) is from about 1:1 to 3:1.
(FR)L'invention a trait à un procédé de production d'un composé répondant à la formule générale suivante (I) dans laquelle R?1¿ représente un hydrogène ou un C¿1?-C¿6? alkyle, un C¿2?-C¿6? alcényle ou un C¿2?-C¿6? alcynyle (chacun d'entre eux pouvant éventuellement être substitué par un ou par plusieurs substituants sélectionnés entre un halogène et OH) ou bien COOH, COH, COOR?4¿, COR?6¿, CONR?4¿R?5¿ ou CONHSO¿2?R?4¿, R?4¿ et R?5¿ représentent chacun, de manière indépendante, un hydrogène ou un C¿1?-C¿4? alkyle, éventuellement substitué par un ou plusieurs atomes halogènes, R?6¿ représente un atome halogène ou un groupe R?4¿. tandis que R?2¿ représente un hydrogène ou halo et que R?3¿ représente un C¿1?-C¿4? alkyle, un C¿2?-C¿4? alcényle ou un C¿2?-C¿4? alcynyle, chacun d'entre eux pouvant éventuellement être substitué par un ou par plusieurs atomes halogène ou halo. Le procédé consiste à faire réagir un composé de la formule générale (II) avec un agent de nitration comportant de l'acide nitrique ou un mélange d'acides nitrique et sulfurique en présence d'un solvant organique et d'anhydride acétique présentant cette particularité que le rapport molaire de l'anhydride acétique et du composé de la formule générale (I) est compris entre environ 1:1 et 3:1.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (KE, LS, MW, SD, SZ, UG)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)