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1. (WO1997001655) DISPOSITIF ECHELONNABLE DE TRAITEMENT PAR ONDES PLASMATIQUES HELICON COMPRENANT UNE CHAMBRE SOURCE NON CYLINDRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1997/001655    N° de la demande internationale :    PCT/US1996/011157
Date de publication : 16.01.1997 Date de dépôt international : 28.06.1996
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.12.1996    
CIB :
C03C 15/00 (2006.01), C03C 17/245 (2006.01), C23C 16/507 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US) (Tous Sauf US).
BENJAMIN, Neil [GB/US]; (US) (US Seulement).
MANGANO, Stefano [US/US]; (US) (US Seulement).
JEWETT, Russell [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BENJAMIN, Neil; (US).
MANGANO, Stefano; (US).
JEWETT, Russell; (US)
Mandataire : PETERSON, James, P.; Burns, Doane, Swecker & Mathis, L.L.P., P.O. Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404 (US)
Données relatives à la priorité :
60/000,714 29.06.1995 US
Titre (EN) A SCALABLE HELICON WAVE PLASMA PROCESSING DEVICE WITH A NON-CYLINDRICAL SOURCE CHAMBER
(FR) DISPOSITIF ECHELONNABLE DE TRAITEMENT PAR ONDES PLASMATIQUES HELICON COMPRENANT UNE CHAMBRE SOURCE NON CYLINDRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A plasma processing device (25) including a vacuum chamber (27) for processing a substrate (29) and a source chamber (26) for generating a plasma is disclosed where the source chamber (26) has a non-cylindrical geometry. Helicon waves of plasma are propagated from the source chamber into the vacuum chamber by a magnetic field having substantially parallel magnetic field lines extending from the source chamber into the vacuum chamber. A RF antenna (31 and 32) of a novel serpentine configuration is used to couple electromagnetic energy into the source chamber to create helicon plasma waves in the source chamber (26). The non-cylindrical geometry of the source chamber allows the processing of large area substrates due to the ability to scale the source chamber to the desired application while maintaining throughput efficiency and the ability to propagate helicon waves along the magnetic field lines present in the source chamber. In one embodiment a linear source chamber having the shape of an elongated rectangular box is disclosed wherein a slot opening (28) connects the source chamber to the vacuum chamber. Due to the ability of the helicon waves from a linear source chamber to propagate in a vacuum chamber without interference from a helicon wave from a similar source chamber, a plasma processing device is disclosed wherein multiple extended non-cylindrical source chambers are arranged to propagate nonparallel helicon plasma waves in a vacuum chamber.
(FR)Cette invention concerne un dispositif (25) de traitement au plasma dans lequel une chambre à vide (27) et une chambre source (26) servent respectivement à traiter un substrat (29) et à générer un plasma, ladite chambre source (26) présentant une géométrie non cylindrique. Des ondes hélicon de plasma se propagent de la chambre source jusqu'à l'intérieur de la chambre à vide au moyen d'un champ magnétique dont les lignes sensiblement parallèles s'étendent de la chambre source jusqu'à l'intérieur de la chambre à vide. On utilise une antenne à radiofréquence (31 et 32) présentant une nouvelle configuration en serpentin pour faire entrer l'énergie électromagnétique dans la chambre source afin de créer des ondes hélicon de plasma dans la chambre source (26). La géométrie non cylindrique de la chambre source permet de traiter des substrats de grande taille étant donné qu'il est possible d'échelonner la chambre source en fonction de l'application désirée tout en conservant l'efficacité de débit et la capacité de propager des ondes hélicon le long des lignes de champ magnétique présentes dans la chambre source. Dans une forme de réalisation, on utilise une chambre source linéaire ayant la forme d'une boîte rectangulaire allongée dans laquelle une ouverture (28) formant une fente relie la chambre source et la chambre à vide. L'aptitude des ondes hélicon issues de la chambre source linéaire à se propager dans une chambre à vide sans qu'il se produise d'interférence avec une onde hélicon issue d'une chambre source similaire permet de concevoir un dispositif de traitement au plasma dans lequel plusieurs chambres sources non cylindriques allongées sont disposées de manière à propager des ondes plasmatiques hélicon non parallèles dans une chambre à vide.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (KE, LS, MW, SD, SZ, UG)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)