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1. (WO1997001184) PROCEDE DE POSITIONNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1997/001184    N° de la demande internationale :    PCT/JP1996/001715
Date de publication : 09.01.1997 Date de dépôt international : 20.06.1996
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100 (JP) (Tous Sauf US).
SHIRATA, Yosuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIRATA, Yosuke; (JP)
Mandataire : HASEGAWA, Yoshiki; Souei International Patent Firm, 6F., Kyobashi National Building, 13-10, Kyobashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 104 (JP)
Données relatives à la priorité :
7/153145 20.06.1995 JP
Titre (EN) POSITIONING METHOD
(FR) PROCEDE DE POSITIONNEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A wafer mark of each shot region is measured by an alignment sensor, and a linear coordinate value of a reference point of each shot region is determined from this measurement result and from design data by an EGA method (steps 101 to 109). Curvilinear array coordinates are determined (step 110) by using an approximate expression on the basis of the linear coordinate value by taking non-linear components of the shot array, and a profile curve expressing the profile of each shot region is determined from the curvilinear array coordinates by interpolation (step 111). Exposure is carried out while changing a reticle stage scanning direction, rotating direction and the height of a wafer stage in such a manner as to correspond to distortion of each shot region expressed by the profile curve (step 114).
(FR)On mesure une marque de plaquette dans chaque zone cible au moyen d'un détecteur d'alignement puis on détermine en mettant en oeuvre une méthode EGA (étape 101 à 109), à partir des résultats de cette mesure et de données de conception, une valeur linéaire de coordonnée d'un point de référence de chaque zone cible. On détermine des coordonnées curvilignes de rangée (étape 110) à l'aide d'une équation d'approximation d'après la valeur linéaire de coordonnée en prenant des composantes non linéaires de la rangée de cibles et l'on détermine une courbe de profil exprimant le profil de chaque zone cible à partir des coordonnées curvilignes de rangée par interpolation (étape 111). On réalise une exposition tout en modifiant le sens de balayage et le sens de rotation d'un plan du réticule ainsi que la hauteur d'un plan de la plaquette de manière à correspondre à une distorsion de chaque zone cible exprimée par la courbe de profil (étape 114).
États désignés : KR, US.
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)