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1. WO1996021211 - ISOLATION DE RESINE NOVOLAK PAR DISTILLATION DE VAPEUR FORCEE EN SOUS-SURFACE A BASSE TEMPERATURE

Numéro de publication WO/1996/021211
Date de publication 11.07.1996
N° de la demande internationale PCT/US1995/016786
Date du dépôt international 21.12.1995
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 29.07.1996
CIB
C08G 8/08 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
GCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
04d'aldéhydes
08de formaldéhyde, p.ex. de formaldéhyde formé in situ
C08G 8/12 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
GCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
04d'aldéhydes
08de formaldéhyde, p.ex. de formaldéhyde formé in situ
12avec des phénols monohydriques n'ayant qu'un seul substituant hydrocarboné en ortho ou en para par rapport au groupe OH, p.ex. p-tert.-butylphénol
C08G 8/24 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
GCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
04d'aldéhydes
08de formaldéhyde, p.ex. de formaldéhyde formé in situ
24avec des mélanges de plusieurs phénols qui ne sont pas couverts par un seul des groupes C08G8/10-C08G8/20140
C08L 61/06 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
LCOMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
61Compositions contenant des polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
06d'aldéhydes avec des phénols
G03F 7/023 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
022Quinonediazides
023Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
CPC
C08G 8/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
8Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
04of aldehydes
08of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
C08G 8/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
8Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
04of aldehydes
08of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
12with monohydric phenols having only one hydrocarbon substituent ortho on para to the OH group, e.g. p-tert.-butyl phenol
C08G 8/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
8Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
04of aldehydes
08of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
24with mixtures of two or more phenols which are not covered by only one of the groups C08G8/10 - C08G8/20
C08L 61/06
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
61Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones
04Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
06of aldehydes with phenols
G03F 7/0236
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
022Quinonediazides
023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
0233characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
0236Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
Déposants
  • HOECHST CELANESE CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • RAHMAN, M., Dalil
  • AUBIN, Daniel, P.
Mandataires
  • SAYKO, Andrew, F., Jr.
Données relatives à la priorité
08/366,63430.12.1994US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ISOLATION OF NOVOLAK RESIN BY LOW TEMPERATURE SUB-SURFACE FORCED STEAM DISTILLATION
(FR) ISOLATION DE RESINE NOVOLAK PAR DISTILLATION DE VAPEUR FORCEE EN SOUS-SURFACE A BASSE TEMPERATURE
Abrégé
(EN)
A water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resin, process for producing such a novolak resin, a photoresist containing such a novolak resin, and a method for producing a semiconductor device, wherein the resin is isolated by sub-surface forced steam distillation.
(FR)
Résine novolak soluble, alcaline, aqueuse, insoluble dans l'eau, procédé de production de ladite résine, photorésist contenant ladite résine et procédé de production d'un dispositif à semi-conducteurs consistant à isoler la résine par distillation de vapeur forcée en sous-surface.
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