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1. (WO1996012389) APPAREIL DESTINE A DEPOSER UNE COUCHE DE MATIERE SUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1996/012389    N° de la demande internationale :    PCT/US1995/013585
Date de publication : 25.04.1996 Date de dépôt international : 18.10.1995
CIB :
C23C 14/06 (2006.01), C23C 14/32 (2006.01)
Déposants : EDSI, INC. [US/US]; 140-29 Keyland Court, Bohemia, NY 11716 (US) (Tous Sauf US).
GANAPATHI, Laxminarayana [IN/US]; (US) (US Seulement).
GILES, Steven, E. [US/US]; (US) (US Seulement).
RAO, Rama [IN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GANAPATHI, Laxminarayana; (US).
GILES, Steven, E.; (US).
RAO, Rama; (US)
Mandataire : SCHECHTER, Peter, C.; Darby & Darby P.C., 805 Third Avenue, New York, NY 10022 (US)
Données relatives à la priorité :
324,894 18.10.1994 US
Titre (EN) APPARATUS FOR DEPOSITING A LAYER OF MATERIAL ON A SUBSTRATE
(FR) APPAREIL DESTINE A DEPOSER UNE COUCHE DE MATIERE SUR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)Apparatus and method for producing amorphous or microcrystalline diamond-like smooth hard coatings on ceramics, glass and plastic for protection from chemical attack and abrasion are disclosed. In vacuum chamber (1) pulsed laser (2) directs a beam (3) through optical device (4), window (5) and lens (8) with mirrors (7a, b) of scanning device (10) positioning the focused beam (11) onto carbon target (12) to produce plume (18) of vaporized material. Coatings are produced by augmenting the plume with a capacitor circuit (13, 14, 15, 16). Energy stored in a capacitor is coupled via ring electrode (9) and the target to the plume in synchronization with the pulsed laser deposition process. Augmentation of the plume increases the energy and ionization of the deposition species and aids in expanding the area of the plume to match that of the substrate (19) on which the film is to be deposited. The target position is adjusted via linear actuator (17), which with the scanning device prevents damage to the target.
(FR)Appareil et procédé destiné au dépôt, sur de la céramique, du verre et du plastique, de couche lisses, amorphes ou microcristallines, présentant la dureté du diamant et assurant une protection contre les agressions chimiques et l'abrasion. Dans une chambre à vide (1), un laser pulsé (2) dirige un faisceau (3) à travers le dispositif optique (4), la fenêtre (5), et la lentille (8), avec ses miroirs (7a, b), du dispositif de balayage (10) positionnant le faisceau focalisé (11) sur la cible carbone (12) pour produire un panache (18) de substance vaporisée. Les couches sont produites par augmentation du panache au moyen d'un circuit à condensateurs (13, 14, 15, 16). Une électrode annulaire (9) et la cible permettent de coupler au panache l'énergie stockée dans un condensateur, lequel couplage est synchrone avec le processus de dépôt par laser pulsé. L'augmentation du panache accroît d'une part l'énergie et l'ionisation de l'espèce de dépôt, et favorise d'autre part l'élargissement de la zone de panache jusqu'à ce qu'elle coïncide avec la zone du substrat (19) où doit être déposé le film. Un moteur linéaire (17) permet de positionner exactement la cible, ce qui, associé au dispositif de balayage, évite d'endommager la cible.
États désignés : AL, AM, AT, AU, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, HU, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LK, LR, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TT, UA, US, UZ, VN.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (KE, MW, SD, SZ, UG)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)