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1. (WO1996012216) COMPOSITION DE RESERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1996/012216    N° de la demande internationale :    PCT/JP1995/002114
Date de publication : 25.04.1996 Date de dépôt international : 13.10.1995
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.04.1996    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : NIPPON ZEON CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100 (JP) (Tous Sauf US).
ABE, Nobunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUNO, Shugo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGIMOTO, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WADA, Yasumasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ABE, Nobunori; (JP).
MATSUNO, Shugo; (JP).
TANAKA, Hideyuki; (JP).
SUGIMOTO, Tatsuya; (JP).
WADA, Yasumasa; (JP)
Mandataire : NISHIKAWA, Shigeaki; Visual City 401, 43-8, Higashi-Nippori 3-chome, Arakawa-ku, Tokyo 116 (JP)
Données relatives à la priorité :
6/274457 13.10.1994 JP
7/21250 13.01.1995 JP
7/84729 16.03.1995 JP
Titre (EN) RESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RESERVE
Abrégé : front page image
(EN)A resist composition containing a polymer (a) having acid-cleavable groups and a compound (b) capable of yielding an acid when irradiated with active rays of light, wherein the polymer (a) has groups containing an allyloxy group having at least two substituents as the acid-cleavable group; and another resist composition containing a resin binder (A), a compound (B) capable of yielding an acid when irradiated with active rays of light, and a compound (C) having an acid-cleavable group, wherein the compound (C) has a group containing an allyloxy group having at least one substituent as the acid-cleavable group. These compositions are excellent in sensitivity, resolution, heat resistance, and pattern formation.
(FR)L'invention porte sur une composition de réserve comportant un polymère (a) présentant des groupes segmentables par un acide et un composé (b) susceptible de produire un acide lorsqu'il est exposé à un rayonnement lumineux actif. Ledit polymère (a) présente des groupes contenant un groupe allyloxy présentant au moins deux substituants à titre de groupe segmentable par l'acide. L'invention porte également sur une deuxième composition de réserve contenant un liant résineux (A), un composé (B) susceptible de produire un acide lorsqu'il est exposé à un rayonnement lumineux actif, et un composé (C) présentant un groupe segmentable par un acide et un groupe contenant un groupe allyloxy présentant au moins un substituant à titre de groupe segmentable par acide. Ces compositions s'avèrent excellentes pour ce qui est de la sensibilité, de la résolution, de la résistance à la chaleur et de la formation des motifs.
États désignés : KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)