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1. (WO1996000803) DEPOT PAR FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES DE FILMS ELECTRIQUEMENT ISOLANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1996/000803    N° de la demande internationale :    PCT/US1995/008210
Date de publication : 11.01.1996 Date de dépôt international : 27.06.1995
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.01.1996    
CIB :
C23C 16/04 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01)
Déposants : FEI COMPANY [US/US]; 7451 N.E. Evergreen Parkway, Hillsboro, OR 97124-5830 (US)
Inventeurs : PURETZ, Joseph; (US)
Mandataire : WALTERS, James, H.; Dellett and Walters, Suite 1101, 310 S.W. Fourth Avenue, Portland, OR 97204 (US)
Données relatives à la priorité :
08/267,189 28.06.1994 US
Titre (EN) CHARGED PARTICLE DEPOSITION OF ELECTRICALLY INSULATING FILMS
(FR) DEPOT PAR FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES DE FILMS ELECTRIQUEMENT ISOLANTS
Abrégé : front page image
(EN)In forming an insulating film upon a selected region of a sample (22), a gaseous vapor is directed over the selected region for depositing a compound of the gaseous vapor containing elements of the insulating film. A charged particle beam (18) is directed toward the selected region in order to decompose the deposited compound and provide the desired insulating film.
(FR)Afin de former un film isolant sur une région choisie d'un échantillon (22), une vapeur gazeuse est dirigée sur la région choisie en vue d'y déposer un composé de la vapeur gazeuse contenant des éléments du film isolant. Un faisceau de particules chargées (18) est dirigé vers la région choisie afin de décomposer le composé déposé et de produire le film isolant requis.
États désignés : AM, AT, AU, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, HU, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LK, LR, LT, LU, LV, MD, MG, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TT, UA, UG, UZ, VN.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (KE, MW, SD, SZ, UG)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)