WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1996000385) PRODUCTION D'ELECTRODES DESTINEES A UNE DETECTION ELECTROCHIMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1996/000385    N° de la demande internationale :    PCT/GB1995/001476
Date de publication : 04.01.1996 Date de dépôt international : 23.06.1995
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.01.1996    
CIB :
G01N 27/403 (2006.01)
Déposants : ENVIRONMENTAL SENSORS LTD. [GB/GB]; Downhams House, Downhams Lane, Cambridge CB4 1XT (GB) (Tous Sauf US).
WILLIAMS, Stephen, Charles [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
ARNOLD, Peter, Thomas [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
YON-HIN, Bernadette [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : WILLIAMS, Stephen, Charles; (GB).
ARNOLD, Peter, Thomas; (GB).
YON-HIN, Bernadette; (GB)
Mandataire : GILL JENNINGS & EVERY; Broadgate House, 7 Eldon Street, London EC2M 7LH (GB)
Données relatives à la priorité :
9412789.1 24.06.1994 GB
Titre (EN) THE PRODUCTION OF ELECTRODES FOR ELECTROCHEMICAL SENSING
(FR) PRODUCTION D'ELECTRODES DESTINEES A UNE DETECTION ELECTROCHIMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method for the fabrication of electrodes, and especially microelectrodes, in which the (micro)electrode consists essentially of an electrically-insulating material through which apertures are formed to reveal the electrically-conducting material, is characterised in that the apertures are formed by the use of a light-hardened (photopolymerizing) resist or a light-softened (photoinduced breaking of bonds) resist.
(FR)Procédé de fabrication d'électrodes, notamment de microélectrodes, celles-ci consistant essentiellement en un matériau électriquement isolant à travers lequel des ouvertures sont ménagées afin de mettre à nu le matériau électroconducteur, ce procédé étant caractérisé en ce que les ouvertures sont formées à l'aide d'un résist durci à la lumière (photopolymérisation) ou d'un résist amolli par la lumière (rupture des liaisons induite par la lumière).
États désignés : CA, JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)