Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO1995012146 - PLAQUE LITHOGRAPHIQUE A SEC

Numéro de publication WO/1995/012146
Date de publication 04.05.1995
N° de la demande internationale PCT/JP1994/001798
Date du dépôt international 26.10.1994
CIB
G03F 7/022 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
022Quinonediazides
G03F 7/023 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
022Quinonediazides
023Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
G03F 7/075 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
075Composés contenant du silicium
CPC
G03F 7/022
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
022Quinonediazides
G03F 7/023
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
022Quinonediazides
023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
G03F 7/0752
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
075Silicon-containing compounds
0752in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Déposants
  • TORAY INDUSTRIES, INC. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • OGUNI, Masahiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • GOTO, Kazuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • SUEZAWA, Mitsuru [JP]/[JP] (UsOnly)
  • YANAGIDA, Shun-ichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • IKEDA, Norimasa [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • OGUNI, Masahiro
  • GOTO, Kazuki
  • SUEZAWA, Mitsuru
  • YANAGIDA, Shun-ichi
  • IKEDA, Norimasa
Données relatives à la priorité
5/26702626.10.1993JP
5/26702726.10.1993JP
5/26702826.10.1993JP
6/15620607.07.1994JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) DRY LITHOGRAPHIC FORME
(FR) PLAQUE LITHOGRAPHIQUE A SEC
Abrégé
(EN)
A dry lithographic forme comprising a support and, stacked thereon in the following order, a photosensitive layer and a silicone rubber layer, wherein the photosensitive layer contains either a reaction product formed between a compound having at least one phenolic hydroxyl group and at least one non-phenolic hydroxyl group and a quinone diazide compound, or both of a reaction product formed between a compound having at least one phenolic hydroxyl group and a quinone diazide compound and another reaction product formed between a compound having at least one non-phenolic hydroxyl group and a quinone diazide compound. The forme has such excellent image reproductivity and plate wear that it is suitable for use in commercial and newspaper offset rotary presses wherein a high plate wear is required, thus being economically advantageous.
(FR)
L'invention concerne une plaque lithographique à sec se composant d'un support sur lequel sont empilées dans l'ordre suivant une couche photosensible et une couche de caoutchouc aux silicones. La couche photosensible contient soit un produit issu de la réaction d'un composé comprenant au moins un groupe hydroxyle phénolique et au moins un groupe hydroxyle non phénolique avec un composé de quinone diazide, ou l'ensemble de deux produits issus, l'un de la réaction d'un composé comprenant au moins un groupe hydroxyle phénolique avec au moins un composé de quinone diazide, l'autre de la réaction d'un composé comprenant au moins un groupe hydroxyle non phénolique avec un composé de quinone diazide. Cette plaque est caractérisée par une excellente aptitude à reproduire l'image, par une usure de plaque qui convient à l'utilisation sur les rotatives offset utilisées en imprimerie de labeur ou de presse où l'usure des plaques est rapide, ce qui est intéressant d'un point de vue économique.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international