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1. (WO1994012265) PROCEDE ET APPAREIL DE PREVENTION DE LA CONTAMINATION D'UN SUBSTRAT OU DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1994/012265    N° de la demande internationale :    PCT/JP1992/001579
Date de publication : 09.06.1994 Date de dépôt international : 02.12.1992
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.11.1993    
CIB :
B01D 53/04 (2006.01), F24F 3/16 (2006.01)
Déposants : EBARA-INFILCO CO., LTD. [JP/JP]; 6-27, Kohnan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 108 (JP) (JP only).
EBARA RESEARCH CO., LTD. [JP/JP]; 2-1, Hon Fujisawa 4-chome, Fujisawa-shi, Kanagawa 251 (JP) (Tous Sauf US).
FUJII, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Tsukuru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Hidetomo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAMOTO, Kazuhiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJII, Toshiaki; (JP).
SUZUKI, Tsukuru; (JP).
SUZUKI, Hidetomo; (JP).
SAKAMOTO, Kazuhiko; (JP)
Mandataire : YUASA, Kyozo; Yuasa and Hara, Section 206, Shin Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PREVENTING CONTAMINATION OF SUBSTRATE OR SUBSTRATE SURFACE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE PREVENTION DE LA CONTAMINATION D'UN SUBSTRAT OU DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A method and apparatus for preventing contamination of a substrate or a substrate surface, and particularly relates to prevention of contamination of raw materials, semi-finished products, base materials of products and substrate surface in the high-tech industry such as in the production of semiconductors and liquid crystals. A gas coming into contact with a base material or substrate is purified by dust removing means and adsorption and/or absorption means so that the concentration of fine particles in the gas is below class 1,000 and a non-methane hydrocarbon concentration is below 0.2 ppm. Thereafter, the base material or the substrate surface is exposed to this gas.
(FR)Procédé et appareil de prévention de la contamination d'un substrat ou de la surface d'un substrat et, notamment, de prévention de la contamination de matériaux bruts, de produits semi-finis, de matériaux de base de produits, et de surfaces de substrats dans l'industrie de haute technologie, telle que la production des semi-conducteurs et de cristaux liquides. Un gaz arrivant au contact d'un matériau de base ou d'un substrat est purifié par un dispositif d'enlèvement des poussières et un dispositif d'adsorption et/ou d'absorption de sorte que la concentration des particules fines dans ce gaz se situe en deça de la classe 1000 et que la concentration d'hydrocarbures non-méthane soit inférieure à 0,2 ppm. Après quoi, le matériau de base ou la surface du substrat est exposé à ce gaz.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)