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1. (WO1994008355) PROCEDE DE FABRICATION DE COUCHES DOPEES P, NOTAMMENT DANS DES SEMICONDUCTEURS DES GROUPES II-VI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1994/008355    N° de la demande internationale :    PCT/DE1993/000915
Date de publication : 14.04.1994 Date de dépôt international : 28.09.1993
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.03.1994    
CIB :
H01L 21/203 (2006.01), H01L 21/363 (2006.01), H01L 21/365 (2006.01), H01L 33/28 (2010.01), H01S 5/00 (2006.01), H01S 5/30 (2006.01)
Déposants : AIXTRON GMBH [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17, D-52072 Aachen (DE) (Tous Sauf US).
HEIME, Klaus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HEUKEN, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HEIME, Klaus; (DE).
HEUKEN, Michael; (DE)
Mandataire : MÜNICH, Wilhelm; Kanzlei Münich, Steinmann, Schiller, Wilhelm-Mayr-Strasse 11, D-80689 München (DE)
Données relatives à la priorité :
P 42 32 504.8 28.09.1992 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON p-DOTIERTEN SCHICHTEN INSBESONDERE IN II-VI-HALBLEITERN
(EN) METHOD OF PRODUCING P-DOPED LAYERS, PARTICULARLY IN II-VI SEMICONDUCTORS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE COUCHES DOPEES P, NOTAMMENT DANS DES SEMICONDUCTEURS DES GROUPES II-VI
Abrégé : front page image
(DE)Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung von p-dotierten Schichten insbesondere in II-VI-Halbleitern, bei dem die p-dotierte Schicht in einem CVD-Schritt mittels Plasmaanregung von stickstoffhaltigen Gasen hergestellt wird.
(EN)Described is a method of producing p-doped layers, particularly in II-VI semiconductors, wherein the p-doped layer is produced in a CDV process using plasma activation of nitrogen-containing gases.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de couches dopées P, notamment dans des semiconducteurs des groupes II-VI, selon lequel la couche dopée P est réalisée dans une étape de dépôt en phase gazeuse par procédé chimique, par excitation plasmique de gaz contenant de l'azote.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)