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1. (WO1994000867) PROCEDE DE REGULATION DE LA DECHARGE LUMINEUSE D'UNE CATHODE CHAUDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1994/000867    N° de la demande internationale :    PCT/DE1993/000544
Date de publication : 06.01.1994 Date de dépôt international : 22.06.1993
CIB :
C23C 16/503 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : VTD-VAKUUMTECHNIK DRESDEN GMBH [DE/DE]; Bismarckstraße 58-66, D-01242 Dresden (DE)
Inventeurs : GRIMM, Werner; (DE).
BÜCKEN, Bernd; (DE).
CERNOHORSKY, Hagen; (DE).
EHRLICH, Ulrike; (DE)
Mandataire : PÄTZELT, Peter; Sachsenwerkstraße 35, D-01257 Dresden (DE)
Données relatives à la priorité :
P 42 21 360.6 29.06.1992 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR REGELUNG EINER GLÜHKATODENGLIMMENTLADUNG
(EN) PROCESS FOR REGULATING A HOT CATHODE GLOW DISCHARGE
(FR) PROCEDE DE REGULATION DE LA DECHARGE LUMINEUSE D'UNE CATHODE CHAUDE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regelung einer Glühkatodenglimmentladung zur Plasmapolymerisation von monomerem Dampf organischer Verbindungen, vorzugsweise einer siliziumorganischen Substanz, bei dem zuerst ein Edelgas in die Vakuumkammer (1) eingelassen wird, danach ein vorbestimmt Glühkatodenstrom eingestellt und langsam nachreguliert wird, bis eine erste Glimmspannung U1 als Sollwert erreicht ist. Anschließend wird der monomere Dampf eingelassen und eine konstante zweite Glimmspannung U2 durch langsames Nachregeln des Glühkatodenstromes aufrechterhalten. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden die Alterungsprozesse der Glühkatode wesentlich verlangsamt und die Standzeit der Glühkatode erhöht. Im besonderen Maße werden die Schwankungen in der Schichtabscheiderate, wie sie beim Stand der Technik auftreten, unterdrückt und die Homogenität der Schicht sowie die Qualität deutlich verbessert.
(EN)A process is disclosed for regulating a hot cathode glow discharge for plasma polymerising a monomer vapour of organic compounds, preferably of a silicium-organic substance. At first a noble gas is introduced in the vacuum chamber (1), then a predetermined hot cathode current is set and slowly readjusted until a first glow potentiel U1 is attained as a set value. The monomer vapour is then introduced and a second constant glow potential U2 is maintained by slowly readjusting the hot cathode current. This process considerably slows down ageing of the hot cathode and increases its service life. In particular, the variations in the sedimentation rate found in the state of the art are suppressed and the homogeneity and quality of the deposited layer are clearly improved.
(FR)Un procédé permet de réguler la décharge lumineuse d'une cathode chaude utilisée pour polymériser au plasma une vapeur monomère de composés organiques, de préférence d'une substance silico-organique. On introduit premièrement un gaz rare dans la chambre à vide (1), puis on établit et on ajuste lentement un courant prédéterminé dans la cathode chaude, jusqu'à atteindre une première tension d'effluve U1 en tant que valeur nominale. On introduit ensuite la vapeur monomère et on maintient une deuxième tension d'effluve constante U2 en ajustant lentement le courant de la cathode chaude. Ce procédé permet de ralentir sensiblement le vieillissement de la cathode chaude et d'accroître sa vie utile. En particulier, les fluctuations de la vitesse de dépôt de la couche qui se produisaient dans la technique antérieure sont supprimées et l'homogénéité et la qualité de la couche sont considérablement améliorées.
États désignés : CZ.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)