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1. (WO1994000851) PROCEDE DE REVETEMENT PERMETTANT DE PRODUIRE DES POUDRES ELECTROCONDUCTRICES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1994/000851    N° de la demande internationale :    PCT/US1993/005719
Date de publication : 06.01.1994 Date de dépôt international : 22.06.1993
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.12.1993    
CIB :
C09C 3/06 (2006.01), H01B 1/08 (2006.01)
Déposants : E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US)
Inventeurs : JACOBSON, Howard, Wayne; (US)
Mandataire : BOYER, Michael, K.; E.I. du Pont de Nemours and Company, Legal/Patent Records Center, 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US)
Données relatives à la priorité :
07/906,076 29.06.1992 US
Titre (EN) COATING PROCESS FOR PRODUCING ELECTROCONDUCTIVE POWDERS
(FR) PROCEDE DE REVETEMENT PERMETTANT DE PRODUIRE DES POUDRES ELECTROCONDUCTRICES
Abrégé : front page image
(EN)An improved method for preparing electroconductive powders by applying a surface coating comprising amorphous silica, and an electro-conducting network of antimony-containing tin oxide crystallites. The process of the invention simultaneously deposits silica in association with an antimony-containing tin oxide. As a result, the process obviates the need for a separate silica deposition step.
(FR)Procédé amélioré de préparation de poudres électroconductrices selon lequel on applique un revêtement de surface comprenant du dioxyde de silicium amorphe, et un réseau électroconducteur de cristallites d'oxyde stannique contenant de l'antimoine. Dans le procédé de cette invention, on dépose simultanément le dioxyde de silicium et l'oxyde stannique contenant de l'antimoine, de sorte que ce procédé élimine le besoin d'effectuer une étape séparée de dépôt du dioxyde de silicium.
États désignés : AU, BB, BG, BR, BY, CA, CZ, FI, HU, JP, KP, KR, KZ, LK, MG, MN, MW, NO, NZ, PL, RO, RU, SD, SK, UA, VN.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)