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1. WO1993023870 - DISPOSITIF ET PROCEDES DE PRODUCTION D'IONS PAR DECHARGE GAZEUSE

Numéro de publication WO/1993/023870
Date de publication 25.11.1993
N° de la demande internationale PCT/GB1993/001038
Date du dépôt international 20.05.1993
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 27.05.1993
CIB
H01J 27/08 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
27Tubes à faisceau ionique
02Sources d'ions; Canons à ions
08utilisant une décharge d'arc
H01J 37/08 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
08Sources d'ions; Canons à ions
CPC
H01J 2237/31705
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
30Electron or ion beam tubes for processing objects
317Processing objects on a microscale
31701Ion implantation
31705Impurity or contaminant control
H01J 27/08
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
27Ion beam tubes
02Ion sources; Ion guns
08using arc discharge
H01J 37/08
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
08Ion sources; Ion guns
Déposants
  • SUPERION LIMITED [GB]/[GB] (AllExceptUS)
  • AITKEN, Derek [GB]/[GB] (UsOnly)
Inventeurs
  • AITKEN, Derek
Mandataires
  • LAIGHT, Martin, Harvey
Données relatives à la priorité
9210884.421.05.1992GB
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) APPARATUS AND METHODS FOR USE IN PRODUCING IONS BY GASEOUS DISCHARGE
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDES DE PRODUCTION D'IONS PAR DECHARGE GAZEUSE
Abrégé
(EN)
Apparatus for producing ions of mass (28) isotope of silicon comprises an ion source (31) for producing an ion beam from an electric discharge in an arc chamber (44). The discharge is maintained by a feed gas of trichlorofluorosilane (SiCl3F) fed along a feed pipe (35). The feed material (11) is contained in liquid form in a feed vessel (12) linked to the feed pipe (35) through a feed pipe (34). The feed pipes (34 and 35) and associated valves (17 and 36) are surrounded by jackets (18 and 46) containing an inert gas at above atmospheric pressure to prevent any inward leaks of air into the feed gas. The purified feed material (11) has previously been provided in the vessel (12) by condensing the feed material at liquid nitrogen temperature, and then pumping out the region above the condensed feed material to remove contaminant gases.
(FR)
Dispositif de production d'ions de l'isotope de masse (28) du silicium comprenant une source d'ions (31) servant à produire un faisceau d'ions à partir d'une décharge électrique dans une chambre d'arc (44). La décharge est maintenue par un gaz de charge de trichlorofluorosilane (SiCl3F) véhiculé le long d'un tuyau d'alimentation (35). Le matériau de charge (11) est contenu sous forme liquide dans un réservoir (12) relié au tuyau d'alimentation (35) par l'intermédiaire d'un tuyau d'alimentation (34). Les tuyaux d'alimentation (34 et 35) et les clapets associés (17 et 36) sont entourés par des gaines (18 et 46) contenant un gaz inerte au-dessus de la pression atmosphérique, afin d'empêcher toute pénétration d'air dans le gaz de charge. Le matériau de charge purifié (11) a été préalablement constitué dans le réservoir (12) par condensation du matériau de charge à la température de l'azote liquide et, ensuite, par pompage de la région située au-dessus du matériau de charge condensé, afin de retirer les gaz contaminants.
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