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1. (WO1993019573) APPAREIL ET METHODE D'OBTENTION D'UN PLASMA A HAUTE DENSITE METTANT EN ×UVRE L'EXCITATION EN MODE DE SIFFLEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1993/019573 N° de la demande internationale : PCT/US1993/002865
Date de publication : 30.09.1993 Date de dépôt international : 25.03.1993
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 21.10.1993
CIB :
H01J 37/32 (2006.01) ,H05H 1/18 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
02
Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiques; Dispositions pour chauffer le plasma
16
utilisant des champs électriques et magnétiques
18
dans lesquels les champs oscillent à très haute fréquence, p.ex. dans la bande des micro-ondes
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
46
utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Déposants :
GENERAL ATOMICS [US/US]; 3550 General Atomics Court San Diego, CA 92121-1194, US
Inventeurs :
OHKAWA, Tihiro; US
TSUNODA, Stanley, Isamu; US
MILLER, Robert, Lynn; US
Mandataire :
WATT, Phillip, H. ; Fitch, Even, Tabin & Flannery Room 900 135 South LaSalle Street Chicago, IL 60603, US
Données relatives à la priorité :
07/857,98126.03.1992US
08/010,55328.01.1993US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING HIGH DENSITY PLASMA USING WHISTLER MODE EXCITATION
(FR) APPAREIL ET METHODE D'OBTENTION D'UN PLASMA A HAUTE DENSITE METTANT EN ×UVRE L'EXCITATION EN MODE DE SIFFLEMENT
Abrégé :
(EN) High density plasma is produced in a long cylindrical cavity (42) by the excitation of a high frequency whistler wave within the cavity. The cylindrical cavity, and hence the plasma, is embedded in a high magnetic field (Bo), with magnetic lines of force passing axially (longitudinally) through the cavity. The magnetic field has an electron cyclotron frequency ($g(v)ce) associated therewith that is much greater than the wave frequency ($g(v)) associated with the whistler wave. In one embodiment, electromagnetic energy is coupled axially into the cylindrical cavity (40) using a resonant cavity (30'), which coupled energy excites the whistler wave. In another embodiment, a plasma formation tube (102) is positioned coaxially within a cylindrical cavity (104), which cylindrical cavity includes a resonant cavity (142) at one end thereof. The plasma is created without using electrodes; and the excitation of the whistler wave is achieved at a high Q value.
(FR) Plasma à haute densité produit dans une cavité cylindrique longue (42) par l'excitation d'une onde de sifflement à haute fréquence à l'intérieur de la cavité. La cavité cylindrique et, en conséquence, le plasma, sont placés dans un champ magnétique intense (Bo), avec des lignes de force magnétiques traversant axialement (longitudinalement) la cavité. Le champ magnétique présente une fréquence cyclotron d'électrons ($g(v)ce) associée considérablement plus élevée que la fréquence d'onde ($g(v)) associée à l'onde de sifflement. Selon un mode de réalisation donné, l'énergie électromagnétique est couplée axialement dans la cavité cylindrique (40) au moyen d'une cavité de résonance (30') l'énergie ainsi couplée excitant l'onde de sifflement. Selon une autre réalisation, le tube de formation de plasma (102) est positionné coaxialement à l'intérieur de la cavité cylindrique (104), la cavité cylindrique renfermant une cavité de résonance (142) à l'une de ses extrémités. Le plasma est obtenu sans utilisation d'électrode, l'excitation de l'onde de sifflement est obtenue pour une valeur Q élevée.
États désignés : CA, JP, KR
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)