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1. (WO1993019503) DISPOSITIF LASER A EXCIMERE KrCl
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1993/019503 N° de la demande internationale : PCT/FR1993/000220
Date de publication : 30.09.1993 Date de dépôt international : 05.03.1993
CIB :
H01S 3/0971 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
09
Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage
097
par décharge dans le gaz d'un laser à gaz
0971
excité transversalement
Déposants :
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) [FR/FR]; 15, quai Anatole-France F-75007 Paris, FR (AllExceptUS)
HUEBER, Jean, Marc [FR/FR]; FR (UsOnly)
FORESTIER, Bernard, M. [FR/FR]; FR (UsOnly)
SENTIS, Marc, L. [FR/FR]; FR (UsOnly)
FONTAINE, Bernard, L. [FR/FR]; FR (UsOnly)
DELAPORTE, Philippe [FR/FR]; FR (UsOnly)
Inventeurs :
HUEBER, Jean, Marc; FR
FORESTIER, Bernard, M.; FR
SENTIS, Marc, L.; FR
FONTAINE, Bernard, L.; FR
DELAPORTE, Philippe; FR
Mandataire :
HERARD, Paul; Cabinet Beau de Loménie 232, avenue du Prado F-13008 Marseille, FR
Données relatives à la priorité :
92/0347717.03.1992FR
Titre (EN) LASER DEVICE WITH A KrCl EXCIMER
(FR) DISPOSITIF LASER A EXCIMERE KrCl
Abrégé :
(EN) A laser device with a KrCl excimer (lambda = 222 nm) is described. The laser device comprises a mixture of a buffer gas, krypton and a chlorine-bearing gas, and includes means for uniformly and intensively preionizing said mixture, mixture excitation means using a first high-voltage electrical pulse (U1) having a short duration (T1), as well as mixture excitation means using a sustaining electrical discharge having a low voltage (U2), a long duration (T2), high average power and high energy (E2). Said mixture excitation means using the first pulse are connected to the electrodes of the laser device, and said mixture excitation means using the sustaining pulse are connected to said electrodes via a magnetic switch (C3) and have a low impedance (Z1). The construction of laser devices, particularly gas laser devices in which a gaseous mixture based on rare gas and at least one halogen is used, is particularly described.
(FR) La présente invention est relative à un dispositif laser à excimère KrCl (lambda = 222 nm). Un dispositif laser à excimère KrCl comportant un mélange d'un gaz tampon, de Krypton et d'un gaz porteur de chlore, comporte des moyens de préionisation intense et homogène dudit mélange, et comporte des moyens d'excitation dudit mélange par une première impulsion électrique de forte tension (U1), de faible durée (T1), et comporte des moyens d'excitation dudit mélange par une décharge électrique d'entretien, de faible tension (U2), de longue durée (T2), de forte puissance moyenne et de forte énergie (E2), lesquels moyens d'excitation dudit mélange par ladite première impulsion sont reliés aux électrodes dudit dispositif laser, lesquels moyens d'excitation par ladite impulsion d'entretien sont reliés auxdites électrodes par un commutateur magnétique (C3) et sont dotés d'une impédance (Z1) faible. Le domaine technique de l'invention est celui de la construction des dispositifs lasers, plus particulièrement de dispositifs lasers à gaz dans lesquels on utilise un mélange gazeux à base de gaz rare et d'un halogène au moins.
États désignés : JP, US
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : Français (FR)
Langue de dépôt : Français (FR)