PATENTSCOPE sera indisponible quelques heures pour des raisons de maintenance le mardi 19.11.2019 à 16:00 CET
Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO1993019022) COUCHE MINCE DE POLYSILICIUM ET SA FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1993/019022 N° de la demande internationale : PCT/JP1993/000338
Date de publication : 30.09.1993 Date de dépôt international : 23.03.1993
CIB :
C03C 17/22 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
03
VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
C
COMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, SUBSTANCES MINÉRALES OU SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
17
Traitement de surface du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
22
par d'autres matières inorganiques
Déposants :
KANEGAFUCHI CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 2-4, Nakanoshima 3-chome Kita-ku Osaka-shi Osaka 530, JP (AllExceptUS)
YAMAMOTO, Kenji [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
YAMAMOTO, Kenji; JP
Mandataire :
SOSOGI, Taro; Room 802 Tenmabashi Sky Heights 2-1, Kokumachi 1-chome Chuo-ku Osaka-shi Osaka 540, JP
Données relatives à la priorité :
4/10056625.03.1992JP
4/10056725.03.1992JP
4/10189828.03.1992JP
4/10925901.04.1992JP
Titre (EN) THIN POLYSILICON FILM AND PRODUCTION THEREOF
(FR) COUCHE MINCE DE POLYSILICIUM ET SA FABRICATION
Abrégé :
(EN) A thin polysilicon film produced by dispersing a granular product of SiOx (where O < x « 2) with a size of 100 Å or less on, for example, a glass substrate at a density of 100 particles or less in a square with a side of 0.1 $g(m)m and then growing a thin polysilicon film with the granular product serving as a nucleus.
(FR) Couche mince de polysilicium obtenue par la dispersion, par exemple sur un substrat en verre ayant une densité de 100 particules dans un carré dont un côté est long de 0,1 $g(m)m, d'un produit granulé de SiOx (où O < x « 2) dont les dimensions sont égales ou inférieures à 100 Å, puis par la croissance d'une couche mince de polysilicium dans laquelle le produit granulé sert de noyau.
États désignés : US
Office européen des brevets (OEB) (DE, FR, GB, IT, NL)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
EP0589049US5517037