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1. (WO1993018439) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1993/018439 N° de la demande internationale : PCT/US1993/001746
Date de publication : 16.09.1993 Date de dépôt international : 25.02.1993
CIB :
G03F 7/022 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
022
Quinonediazides
Déposants :
HOECHST CELANESE CORPORATION [US/US]; Route 202-206 North Somerville, NJ 08876, US
Inventeurs :
KHANNA, Dinesh, N.; US
MCKENZIE, Douglas; US
SOBODACHA, Chester, J.; US
DAMMEL, Ralph, R.; US
Mandataire :
SAYKO, Andrew, F., Jr.; Hoechst Celanese Corporation 51 John F. Kennedy Parkway Short Hills, NJ 07078, US
Données relatives à la priorité :
07/847,52706.03.1992US
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE
Abrégé :
(EN) A photosensitizer comprising a diazo ester of benzolactone ring compound, such as phenolphthalein or cresolphthalein as the backbone, where at least one of the hydroxy groups on benzolactone ring has been esterified with diazo-sulfonyl chloride consisting of 60 to 100 mole % 2,1,4 or 2,1,5-diazo sulfonyl chloride or a mixture thereof, and a photoresist comprising an admixture of the photosensitizer, which is present in the photoresist composition in an amount sufficient to uniformly photosensitize the photoresist composition; a water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resin, the novolak resin being present in the photoresist composition in an amount sufficient to form a substantially uniform photoresist composition and a suitable solvent.
(FR) L'invention concerne un photosensibilisateur qui comprend un squelette consistant en un diazo-ester de composé cyclique de benzolactone tel que la phénolphtaléine ou la phtaléine crésolique, dans lequel au moins un des groupes hydroxy sur le noyau benzolactone a été estérifié avec du chlorure de diazo-sulfuryle contenant 60 à 100 % en poids ou un mélange de chlorure de diazo-sulfuryle- 2,1,4 ou 2,1,5. De plus, ledit photosensibilisateur comprend un agent photorésistant contenant un admixtion de photosensibilisateur, en quantité suffisante dans la composition photorésistante pour photosensibiliser uniformément ladite composition photorésistante. Il contient également de la novolaque soluble dans l'alcali volatil et insoluble dans l'eau, la quantité de novolaque présente dans la composition photorésistante étant suffisante pour former une composition pratiquement homogène et un solvant approprié.
États désignés : JP, KR
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)