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1. WO1993017796 - SYSTEME ET PROCEDE POUR DEPOSER AVEC PRECISION DES PARTICULES SUR UNE SURFACE

Numéro de publication WO/1993/017796
Date de publication 16.09.1993
N° de la demande internationale PCT/US1992/008669
Date du dépôt international 09.10.1992
CIB
B05B 12/08 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
BAPPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
12Aménagements de commande de la distribution; Aménagements de réglage de l’aire de pulvérisation
08sensibles à l'état du liquide ou d'un autre matériau fluide expulsé, du milieu ambiant ou de la cible
B05D 1/12 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
1Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces
02réalisés par pulvérisation
12Application de matériaux en particules
CPC
B05B 12/085
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
12Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
08responsive to condition of liquid or other fluent material ; to be; discharged, of ambient medium or of target ; ; responsive to condition of spray devices or of supply means, e.g. pipes, pumps or their drive means
085responsive to flow or pressure of liquid or other fluent material to be discharged
B05D 1/12
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
1Processes for applying liquids or other fluent materials
02performed by spraying
12Applying particulate materials
Déposants
  • VLSI STANDARDS, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • SCHEER, Bradley, W.
  • KONICEK, Paul, A.
Mandataires
  • SCHNECK, Thomas
Données relatives à la priorité
846,20204.03.1992US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SYSTEM AND METHOD FOR ACCURATELY DEPOSITING PARTICLES ON A SURFACE
(FR) SYSTEME ET PROCEDE POUR DEPOSER AVEC PRECISION DES PARTICULES SUR UNE SURFACE
Abrégé
(EN)
A particle deposition system having an atomizer (11), wafer transport (39), sheath flow means, particle counter and computer control for accurately depositing a desired density of particles (13) onto a surface. The sheath flow (35) keeps an article (19) clean, while the particle flux in the deposition chamber (15) is rising from zero to an equilibrium state. The particle counter measures particle flux by sampling the atmosphere in the deposition chamber (15). The computer (47) determines when the rate of change of particle flux is substantially zero and then actuates transport of the article (19) completely or partially out of the sheath flow (35) into the mist of falling particles (13). The computer (47) also calculates the required deposition time for providing the article's surface with a desired particle density, actuating transport of the article (19) back into the sheath flow (35) after the desired density is reached.
(FR)
L'invention concerne un système de déposition de particules comportant un atomiseur (11), un transporteur de pastilles (39), un moyen d'écoulement gainé, un compteur de particules et un système de gestion par ordinateur, prévu pour déposer avec précision une densité désirée de particules (13) sur une surface. L'écoulement gainé (35) maintient un article (19) propre lorsque le flux de particules dans la chambre de déposition (15) s'élève de zéro à un état d'équilibre. Le compteur de particules mesure le flux de particules par prélèvement d'un échantillon d'atmosphère dans la chambre de déposition (15). L'ordinateur (47) détermine si la vitesse de variation du flux de particules est bien à zéro et actionne ensuite le transport de l'article (19) complètement ou partiellement hors de l'écoulement gainé (35) pour le diriger dans le brouillard des particules tombantes (13). L'ordinateur (47) calcule également le temps de déposition nécessaire pour déposer sur la surface de l'article une densité de particules désirée, pour déclencher le retour de l'article (19) dans l'écoulement gainé (35) après avoir atteint la densité désirée.
Également publié en tant que
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