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1. (WO1993017445) PRODUCTION DE CHAMPS MAGNETIQUES DANS LES ZONES DE MANOEUVRE POUR L'IRRADIATION D'UNE SURFACE AU MOYEN D'IONS ATOMIQUES ET MOLECULAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1993/017445 N° de la demande internationale : PCT/US1993/001841
Date de publication : 02.09.1993 Date de dépôt international : 01.03.1993
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 22.09.1993
CIB :
G21K 1/093 (2006.01) ,H01F 3/02 (2006.01) ,H01F 7/20 (2006.01) ,H01J 3/32 (2006.01) ,H01J 29/76 (2006.01) ,H01J 37/147 (2006.01)
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
K
TECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
1
Dispositions pour manipuler des particules ou des rayonnements ionisants, p.ex. pour focaliser ou pour modérer
08
Déviation, concentration ou focalisation du faisceau par des moyens électriques ou magnétiques
093
par des moyens magnétiques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
F
AIMANTS; INDUCTANCES; TRANSFORMATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS MAGNÉTIQUES
3
Noyaux, culasses ou induits
02
en feuilles
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
F
AIMANTS; INDUCTANCES; TRANSFORMATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS MAGNÉTIQUES
7
Aimants
06
Electro-aimants; Actionneurs comportant des électro-aimants
20
sans armature
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
3
Détails des dispositifs électronoptiques ou ionoptiques ou des pièges à ions, communs au moins à deux types de base de tubes ou de lampes à décharge
26
Dispositifs de déviation du rayon ou du faisceau
28
suivant une seule ligne droite ou suivant deux lignes droites perpendiculaires
32
au moyen de champs magnétiques uniquement
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
29
Détails des tubes à rayons cathodiques ou des tubes à faisceau électronique des types couverts par le groupe H01J31/137
46
Dispositions des électrodes et des pièces associées en vue de produire ou de commander le rayon ou le faisceau, p.ex. dispositifs électronoptiques
70
Dispositions pour la déviation du rayon ou du faisceau
72
suivant une ligne droite ou suivant deux lignes droites perpendiculaires
76
Déviation au moyen de champs magnétiques uniquement
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
147
Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
Déposants :
NISSIN ELECTRIC COMPANY LTD. [JP/JP]; 575, Kuze Tomoshiro-Cho Minami-Ku Kyoto 601, JP
GLAVISH, Hilton, F. [US/US]; US
Inventeurs :
GLAVISH, Hilton, F.; US
Mandataire :
WILLIAMS, John, N.; Fish & Richardson 225 Franklin Street Boston, MA 02110, US
Données relatives à la priorité :
07/843,39128.02.1992US
Titre (EN) PRODUCING MAGNETIC FIELDS IN WORKING GAPS USEFUL FOR IRRADIATING A SURFACE WITH ATOMIC AND MOLECULAR IONS
(FR) PRODUCTION DE CHAMPS MAGNETIQUES DANS LES ZONES DE MANOEUVRE POUR L'IRRADIATION D'UNE SURFACE AU MOYEN D'IONS ATOMIQUES ET MOLECULAIRES
Abrégé :
(EN) A deflection apparatus for high perveance ion beams, operating at 20 Hz fundamental and substantially higher order harmonics, has a magnetic structure formed of laminations (72) with thickness in range between 0.2 and 1 millimeter. A compensator with similar laminated structures (71, 75) with resonant excitation circuit, operating at 20 Hz or higher, is in phase locked relationship with the frequency of the previously deflected beam. Other features with broader applicability to produce strong magnetic field in magnetic gap are shown.
(FR) L'invention se rapporte à un appareil de déviation pour faisceaux d'ions à grande pervéance, qui fonctionne à des harmoniques fondamentaux et pratiquement supérieurs de 20 Hz, et se compose d'une structure magnétique constituée de tôles (72) d'une épaisseur comprise entre 0,2 et 1 millimètre. Un compensateur présentant des structures feuilletées similaires (71, 75) et un circuit résonnant, et fonctionnant à 20 Hz et plus, est asservi en phase à la fréquence du dernier faisceau dérivé. D'autres modes de réalisation avec des applications plus vastes permettant la production d'un champ magnétique intense dans l'entrefer sont également décrits.
États désignés : CA, JP, KR
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP0632929JPH10513301 KR1019957001130