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1. (WO1993017440) PROCEDE D'OBTENTION D'UN EVIDEMENT A FLANC INCLINE DANS UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1993/017440 N° de la demande internationale : PCT/DE1993/000152
Date de publication : 02.09.1993 Date de dépôt international : 18.02.1993
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 24.09.1993
CIB :
G01L 9/00 (2006.01) ,H01H 1/00 (2006.01) ,H01H 59/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
L
MESURE DES FORCES, DES CONTRAINTES, DES COUPLES, DU TRAVAIL, DE LA PUISSANCE MÉCANIQUE, DU RENDEMENT MÉCANIQUE OU DE LA PRESSION DES FLUIDES
9
Mesure de la pression permanente, ou quasi permanente d'un fluide ou d'un matériau solide fluent par des éléments électriques ou magnétiques sensibles à la pression; Transmission ou indication par des moyens électriques ou magnétiques du déplacement des éléments mécaniques sensibles à la pression, utilisés pour mesurer la pression permanente ou quasi permanente d'un fluide ou d'un matériau solide fluent
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
H
INTERRUPTEURS ÉLECTRIQUES; RELAIS; SÉLECTEURS, DISPOSITIFS DE PROTECTION
1
Contacts
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
H
INTERRUPTEURS ÉLECTRIQUES; RELAIS; SÉLECTEURS, DISPOSITIFS DE PROTECTION
59
Relais électrostatiques; Relais à électro-adhésion
Déposants :
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2 D-80333 München, DE (AllExceptUS)
SCHLAAK, Helmut [DE/DE]; DE (UsOnly)
ARNDT, Frank [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs :
SCHLAAK, Helmut; DE
ARNDT, Frank; DE
Données relatives à la priorité :
P 42 06 677.828.02.1992DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER AUSNEHMUNG MIT EINER SCHRÄGEN FLANKE IN EINEM SUBSTRAT
(EN) PROCESS FOR MAKING AN OBLIQUE-SIDED RECESS IN A SUBSTRATE
(FR) PROCEDE D'OBTENTION D'UN EVIDEMENT A FLANC INCLINE DANS UN SUBSTRAT
Abrégé :
(DE) Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Ausnehmung mit einer schrägen Flanke in einem Substrat, bei dem Oberflächenbereiche des Substrats entsprechend der herzustellenden Ausnehmung mit einer für eine isotrope Ätzflüssigkeit unangreifbaren Ätzmaske abgedeckt werden und anschließend ein isotropes Ätzen vorgenommen wird. Um mit einem solchen Verfahren schräge Flanken mit einer sehr geringen Steigung herstellen zu können, wird vor dem Aufbringen der Ätzmaske (5) auf die Oberflächenbereiche (3) des Substrats (2) eine durch die isotrope Ätzflüssigkeit abtragbare Schicht (4) aufgetragen.
(EN) The invention relates to a process for making an oblique-sided recess in a substrate in which areas of the substrate corresponding to the recess to be made are covered with an etching mask which is not attacked by an isotropic etching fluid and isotropic etching is then performed. In order to be able to make oblique sides with a very shallow slope with such a process, a layer (4) removable by the isotropic etching fluid is applied to the areas (3) of the substrate (2) before the application of the etching mask (5).
(FR) L'invention concerne un procédé d'obtention d'un évidement à flanc incliné dans un substrat, selon lequel des zones superficielles du substrat sont recouvertes, en fonction de l'évidement à obtenir, par un cache de réserve inattaquable par un liquide corrosif isotrope, après quoi on effectue une gravure isotrope. Afin de pouvoir obtenir avec un tel procédé des flancs inclinés de très faible pente, on dépose, avant l'apport du cache de réserve (5) sur les zones superficielles (3) du substrat (2), une couche (4) enlevable par le liquide corrosif isotrope.
États désignés : US
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Langue de publication : Allemand (DE)
Langue de dépôt : Allemand (DE)
Également publié sous:
EP0628209US5552015