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1. (WO1993016213) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MODIFICATION DE SURFACES PAR REACTIONS PHYSICO-CHIMIQUES DE GAZ OU DE VAPEURS SUR LES SURFACES A L'AIDE D'IONS FORTEMENT CHARGES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1993/016213    N° de la demande internationale :    PCT/EP1993/000214
Date de publication : 19.08.1993 Date de dépôt international : 30.01.1993
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.09.1993    
CIB :
C23C 16/27 (2006.01), C23C 16/34 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/48 (2006.01), C30B 33/00 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
Déposants : HOFFMEISTER, Helmut [DE/DE]; (DE) (Tous Sauf US).
ANDRÄ, Jürgen [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : ANDRÄ, Jürgen; (DE)
Représentant
commun :
HOFFMEISTER, Helmut; Goldstraße 36, D-4400 Münster (DE)
Données relatives à la priorité :
P 42 04 650.5 15.02.1992 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR OBERFLÄCHENMODIFIKATION DURCH PHYSIKALISCH-CHEMISCHE REAKTIONEN VON GASEN ODER DÄMPFEN AN OBERFLÄCHEN MIT UNTERSTÜTZUNG VON HOCHGELADENEN IONEN
(EN) PROCESS AND DEVICE FOR SURFACE-MODIFICATION BY PHYSICO-CHEMICAL REACTIONS OF GASES OR VAPOURS ON SURFACES, USING HIGHLY-CHARGED IONS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MODIFICATION DE SURFACES PAR REACTIONS PHYSICO-CHIMIQUES DE GAZ OU DE VAPEURS SUR LES SURFACES A L'AIDE D'IONS FORTEMENT CHARGES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Oberflächenmodifikation durch physikalisch-chemische Reaktionen mit den Verfahrensschritten: a) Kontaktieren einer festen Oberfläche mit kristalliner oder amorpher Struktur mit einem reaktiven, gasförmigen Fluid (Gas, Gasgemisch, Dampf oder Dampfgemisch), das mit der Oberfläche in Wechselwirkung treten soll, b) Einbrigen von Aktivierungsenergie in den Kontaktbereich von Fluid und Oberfläche mit Hilfe von Ionen oder Plasmen, um Reaktionen zwischen den genannten Partnern auszulösen. Zur Verbesserung wird vorgeschlagen, daß dieAktivierungsenergie in Form von wenigstens zweifach geladenen Ionen mit niederer kinetischer Energie oder mit Plasmaströmen, die einen ausreichenden Anteil an wenigstens zweifach geladenen Ionen mit niederer kinetischer Energie aufweisen, eingebracht wird, wobei die den Ionen gegebene kinetische Energie lediglich danach bemessen wird, daß den Ionen eine nächste Annäherung an die Atome der Oberfläche, nicht jedoch ein Eindringen in die Oberfläche ermöglicht ist.
(EN)The invention concerns a process and a device for surface-modification by physico-chemical reactions with the following steps: a) contacting a solid surface having a crystalline or amorphous structure with a reactive, gaseous fluid (gas, gas mixture, vapour or vapour mixture) which is to interact with the surface; (b) supplying activating energy to the contact area between fluid and surface by means of ions or plasmas, in order to trigger reactions between said partners. In order to improve such a process and device, the activating energy is supplied as ions having at least a double charge and low kinetic energy or plasma streams with a sufficient proportion of ions having at least a double charge and low kinetic energy. The kinetic energy imparted to the ions is selected so that it allows the ions to closely approach the surface atoms but no to enter the surface.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif de modification de surfaces par réactions physico-chimiques comportant les étapes suivantes: a) mise en contact d'une surface solide de structure cristalline ou amorphe avec un fluide gazeux réactif (gaz, mélange gazeux, vapeur ou mélange de vapeur) qui doit entrer en interaction avec la surface, b) apport d'énergie d'activation dans la zone de contact du fluide et de la surface à l'aide d'ions ou de plasmas, afin de déclencher des réactions entre lesdits réactifs associés. Afin d'améliorer le procédé, il est suggéré que l'énergie d'activation soit amenée sous forme d'ions au moins à doublet de charge, ayant une faible énergie cinétique ou avec des courants plasmatiques comportant une proportion suffisante d'ions au moins à doublet de charge ayant une faible énergie cinétique. L'énergie cinétique conférée aux ions doit être dosée de manière à leur permettre d'approcher les atomes de la surface, sans pour autant pénétrer à l'intérieur de la surface.
États désignés : AU, BB, BG, BR, CA, FI, HU, JP, KP, KR, LK, MG, MN, MW, NO, PL, RO, RU, SD, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)