(EN) A system for measuring topological features, such as curvatures and profiles, of surfaces such as semiconductor wafer surfaces. The system includes a) laser means (11) and lens means (13) for directing a beam of weakly-convergent light for incidence on a surface which is to be measured, b) photodetector means (25) for detecting the position of the laser light beam reflected from the surface, c) first translation means (20) for providing relative movement between the laser means and the surface in a direction which is normal to the direction of the incident beam, so that the incident beam is caused to scan across the surface, and e) position sensing means connected to the photodetector means for detecting the location on the photodetector means at which the reflected beam is incident.
(FR) L'invention se rapporte à un système pour mesurer les caractéristiques topologiques, telles que des courbures et des profils, sur des surfaces telles que des surfaces de plaquettes de semi-conducteur. Ce système comprend: a) un laser (11) et une lentille (13) servant à diriger un faisceau de lumière faiblement convergent sur une surface d'incidence qui doit être mesurée; b) un photodétecteur (25) servant à détecter la position du faisceau laser réfléchi par la surface; c) un premier organe de translation (20) servant à établir un mouvement relatif entre le laser et la surface dans une direction qui est perpendiculaire à la direction du faisceau incident, pour que ce faisceau incident soit amené à balayer ladite surface; et e) un organe de détection de position connecté au photodétecteur et destiné à détecter l'endroit sur le photodétecteur où le faisceau réfléchi est incident.
