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1. (WO1993010286) PRODUCTION DE SURFACES AU TELLURE DE CADMIUM (CdTe) PROPRES ET BIEN ORDONNEES PAR ABLATION AU LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1993/010286    N° de la demande internationale :    PCT/US1992/009575
Date de publication : 27.05.1993 Date de dépôt international : 06.11.1992
CIB :
C23C 16/02 (2006.01), C30B 33/00 (2006.01)
Déposants : HUGHES AIRCRAFT COMPANY [US/US]; 7200 Hughes Terrace, Los Angeles, CA 90045-0066 (US)
Inventeurs : ZINCK, Jennifer, J.; (US).
BREWER, Peter, D.; (US)
Mandataire : DURAISWAMY, Vijayalakshmi, D.; Hughes Aircraft Company, P.O. Box 80028, Bldg. C1/MS A126, Los Angeles, CA 90080-0028 (US)
Données relatives à la priorité :
790,947 12.11.1991 US
Titre (EN) PRODUCTION OF CLEAN, WELL-ORDERED CdTe SURFACES USING LASER ABLATION
(FR) PRODUCTION DE SURFACES AU TELLURE DE CADMIUM (CdTe) PROPRES ET BIEN ORDONNEES PAR ABLATION AU LASER
Abrégé : front page image
(EN)Chemically-etched CCdTe surfaces are exposed to UV excimer laser radiation at a fluence greater than the threshold fluence for creating a non-stoichiometric film, followed by either a low temperature (<300 °C) thermal anneal or exposure of the CdTe surface to UV excimer laser radiation at a fluence lower than the threshold fluence. This procedure provides clean, stoichiometric, and well-ordered CdTe surfaces.
(FR)Dans cette invention on expose des surfaces CdTe attaquées chimiquement à un rayonnement laser excimer aux U.V. à une fluence supérieure à la fluence limite pour former un film non stoechiométrique, on soumet ensuite la surface CdTe à une recuisson thermique à basse température (<300 °C) ou bien on l'expose à un rayonnement laser excimer aux U.V. à une fluence inférieure à la fluence limite. Ce procédé permet de produire des surfaces CdTe qui sont propres, stoechiométriques et bien ordonnées.
États désignés : JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)