WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1993009467) PROCEDE ET APPAREIL DE TRANSFERT D'UN MOTIF DE RETICULE SUR UN SUBSTRAT PAR BALAYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1993/009467    N° de la demande internationale :    PCT/US1992/009355
Date de publication : 13.05.1993 Date de dépôt international : 03.11.1992
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.06.1993    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : SWANSON, Paul, A. [US/US]; (US).
GIBSON, John, A. [US/US]; (US).
KNIRCK, Jeffrey, G. [US/US]; (US)
Inventeurs : SWANSON, Paul, A.; (US).
GIBSON, John, A.; (US).
KNIRCK, Jeffrey, G.; (US)
Mandataire : NORVIEL, Vern; Townsend and Townsend, One Market Plaza, 20th floor, Steuart Tower, San Francisco, CA 94105 (US)
Données relatives à la priorité :
07/788,146 04.11.1991 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR TRANSFER OF A RETICLE PATTERN ONTO A SUBSTRATE BY SCANNING
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE TRANSFERT D'UN MOTIF DE RETICULE SUR UN SUBSTRAT PAR BALAYAGE
Abrégé : front page image
(EN)A system and method for transferring a reticle (201) pattern to a substrate image (203) by scanning. The reticle is placed between an illumination system (118) and the projection lens (117). The substrate is located below the projection lens. A loading system, wafer adjustment system, and focusing system are also disclosed.
(FR)Système et procédé servant à transférer un motif de réticule (201) sur un support d'image (203) par procédé de balayage. Le réticule est placé entre un système d'éclairage (118) et la lentille de projection (117). Le substrat est placé au-dessous de la lentille. Un système de chargement, un système d'ajustement de tranche et un système de focalisation sont également décrits.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)