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1. (WO1992022925) MATERIAUX STABLES ET AMORPHES TELS QUE LE SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1992/022925    N° de la demande internationale :    PCT/US1992/005089
Date de publication : 23.12.1992 Date de dépôt international : 17.06.1992
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    15.01.1993    
CIB :
G03G 5/082 (2006.01), H01L 29/16 (2006.01), H01L 31/0376 (2006.01), H01L 31/075 (2012.01)
Déposants : ADVANCED PHOTOVOLTAIC SYSTEMS, INC. [US/US]; 195 Clarkesville Road, Lawrenceville, NJ 08648 (US)
Inventeurs : XI, Jianping; (US).
GHOSH, Malathi; (US).
LIU, Tongyu; (US).
MACNEIL, John; (US)
Mandataire : BRAINARD, Charles, R.; Kenyon & Kenyon, One Broadway, New York, NY 10004 (US)
Données relatives à la priorité :
716,967 18.06.1991 US
Titre (EN) STABLE AMORPHOUS MATERIALS SUCH AS SILICON
(FR) MATERIAUX STABLES ET AMORPHES TELS QUE LE SILICIUM
Abrégé : front page image
(EN)An amorphous material such as silicon is doped with a dopant, such as boron, in small amounts effective to reduce light-induced degradation. The dopant preferably is added in the vapor deposition of the amorphous material and results in a concentration of less than about 5x10?18¿ atoms/cm?3¿ in a film. The films may be used in applications such as photovoltaic devices, xerography drums, facsimile elements, thin film transistors, and particle detectors.
(FR)Un matériau amorphe tel que le silicium est dopé avec un agent de dopage, tel que du bore, en petites quantités permettant de réduire efficacement la dégradation causée par la lumière. L'agent de dopage est de préférence ajouté au cours du dépôt en phase vapeur du matériau amorphe, et présente une concentration inférieure à 5X10?18¿ atomes/cm?3¿ environ dans une pellicule. Les pellicules peuvent être utilisées dans des dispositifs photovoltaïques, des tambours de xérographie, des éléments de télécopieurs, des transistors à couche mince et des détecteurs de particules.
États désignés : AT, AU, BB, BG, BR, CA, CH, CS, DE, DK, ES, FI, GB, HU, JP, KP, KR, LK, LU, MG, MN, MW, NL, NO, PL, RO, RU, SD, SE.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)