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1. (WO1992022508) PROCEDE DE NETTOYAGE D'ELEMENTS OU D'ENSEMBLES D'ELEMENTS OPTIQUES DE PRECISION SANS EMISSIONS, NOTAMMENT SANS EMISSION DE CFC
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1992/022508    N° de la demande internationale :    PCT/DE1992/000440
Date de publication : 23.12.1992 Date de dépôt international : 30.05.1992
CIB :
C03C 23/00 (2006.01)
Déposants : LEICA MIKROSKOPIE UND SYSTEME GMBH [DE/DE]; Ernst-Leitz-Straße, Postfach 20 40, D-6330 Wetzlar (DE) (Tous Sauf US).
PREUSSNER, Elke [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GRÜNWALD, Heinrich [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHEERER, Friedrich [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : PREUSSNER, Elke; (DE).
GRÜNWALD, Heinrich; (DE).
SCHEERER, Friedrich; (DE)
Données relatives à la priorité :
P 41 20 202.3 19.06.1991 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR EMISSIONSFREIEN, INSBESONDERE FCKW-FREIEN, REINIGUNG VON PRÄZISIONS-OPTIKEN BZW. -OPTIKBAUGRUPPEN
(EN) PROCESS FOR CLEANING PRECISION OPTICS OR OPTICAL ASSEMBLIES WITHOUT PRODUCING EMISSIONS, ESPECIALLY CFCs
(FR) PROCEDE DE NETTOYAGE D'ELEMENTS OU D'ENSEMBLES D'ELEMENTS OPTIQUES DE PRECISION SANS EMISSIONS, NOTAMMENT SANS EMISSION DE CFC
Abrégé : front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur emissionsfreien Reinigung von Präzisions-Optiken angegeben, das folgende Verfahrensstufen enthält: (a) Vorbehandlungs-Prozeß, bestehend aus dem Reinigen in einem Bad, welches gepuffertes Leitungswasser enthält, dem Tenside als Netzmittel zugesetzt sind, wobei eine Badumwälzung und eine Feinstfilterung vorgesehen sind und zusätzlich eine Einwirkung mittels Ultraschalls, vorzugsweise mit variablen Frequenzen und Amplituden, erfolgt; sodann Spülen mit netzmittelfreiem, gepuffertem Leitungswasser bei gleichzeitiger Feinstfilterung des Frischwassers und Einwirkung mittels Ultraschalls; sodann erneutes Reinigen und erneutes Spülen; sodann Spülen mit gepuffertem, de-ionisiertem Wasser unter Einwirkung mittels Ultraschalls und Brausen mit de-ionisiertem Wasser unter gleichzeitiger Feinstfilterung des Bades; (b) Abbauen von organischen Verunreinigungen sowie der Tensid-Reste bis zum CO¿2? mittels kurzwelliger UV-Strahlung oder hochbeschleunigter Elektronen oder Glimmentladung unter Aufrechterhaltung einer drucklosen Sauerstoffatmosphäre oder einem bis zu 5 bar betragenden Sauerstoffatmosphären-Druck oder einer drucklosen Ozonatmosphäre oder einem bis zu 2 bar betragenden Ozonatmosphären-Druck; (c) Überprüfen der Grenzflächen der aus Glas bestehenden Optiken in bezug auf Reaktionen mit organischen Radikalen, auf Abbaureaktionen an der Glasoberfläche bzw. auf Änderungen der Oberflächengeometrie; (d) Hauptbehandlungs-Prozeß, bestehend aus den nachfolgenden Stufen: Verdrängen des Wassers auf der Glasoberfläche beispielweise mittels nicht-flüchtiger, hydrophober, reaktiver Substanzen oder mittels nicht-flüchtiger, hydrophober Substanzen; Versiegeln der Oberfläche durch Filmbildung mittels UV- bzw. Elektronenstrahlung und Beschichten der Oberflächen, wobei entweder durch Glimmen ein Abbau der Oberflächenversiegelungsschicht zum Metalloxid oder durch Glimmen eine Aktivierung der Oberflächenversiegelungsschicht erfolgt. Nach Abschluß dieses FCKW-freien Reinigungsverfahrens kann das entsprechende Optikbauteil beispielsweise durch Aufbringen einer Kitt- oder einer Vergütungsschicht weiterbehandelt werden.
(EN)(a) A process for emission-free cleaning of precision optics consists of: pretreatment consisting of cleaning in a bath containing buffered tapwater to which tensides are added as a wetting agent, including circulation and very fine filtration of the bath, and in addition the use of ultrasound, preferably at variable frequencies and amplitudes; then rinsing with buffered tapwater containing no wetting agent with simultaneous very fine filtration and the action of ultrasound, followed by further cleaning and rinsing, in turn followed by rinsing in buffered deionised water under the action of ultrasound and agitation in deionised water with the simultaneous fine filtration of the bath; (b) decomposition of organic impurities and the residual tensides to CO¿2? using short-wave UV radiation or highly accelerated electrons or a glow discharge while maintaining an unpressurised oxygen atmosphere or an oxygen atmosphere pressure of up to 5 bars or an unpressurised ozone atmosphere or an ozone atmosphere pressure of up to 2 bars; (c) testing the boundary surfaces of the glass optics with respect to reactions with organic radicals for decomposition reactions at the glass surface or changes in the surface geometry; (d) main treatment consisting of the following steps: driving the water from the glass surface, e.g. by means of non-volatile, hydrophobic, reactive substances or non-volatile hydrophobic substances; sealing the surface by the formation of a film with UV or electron radiation and coating the surfaces, the surface sealing layer being decomposed to metal oxide by a glow discharge or activated by a glow discharge. Following this CFC-free cleaning process, the optical component concerned can be treated further, for example by the application of a cementing or antireflection layer.
(FR)Un procédé de nettoyage sans émissions d'éléments optiques de précision comprend les étapes suivantes: (a) un pré-traitement qui comprend le nettoyage dans un bain contenant de l'eau de robinet tamponnée, à laquelle on ajoute des agents tensioactifs en tant qu'agent mouillant, le bain étant mis en circulation et finement filtré, le nettoyage étant accompagné de l'exposition à des ultrasons, de préférence à des fréquences et des amplitudes variables; les éléments optiques sont ensuite rincés à l'eau de robinet tamponnée sans agents mouillants, avec exposition à des ultrasons, alors que l'eau fraîche est finement filtrée; un nouveau nettoyage et un nouveau rinçage s'ensuivent, ainsi qu'un rincage avec de l'eau tamponnée dé-ionisée, avec exposition à des ultrasons et agitation avec de l'eau dé-ionisée, en même temps que le bain est finement filtré; (b) la décomposition d'impuretés organiques et des restes d'agents tensio-actifs jusqu'à les transformer en CO¿2? par exposition à des rayonnements UV à ondes courtes ou à des électrons fortement accélérés ou à une décharge lumineuse, dans une atmosphère d'oxygène sans pression ou sous une pression pouvant s'élever jusqu'à 5 bars ou dans une atmosphère d'ozone sans pression ou sous une pression pouvant s'élever jusqu'à 2 bars; (c) le contrôle des interfaces des éléments optiques en verre pour ce qui est des réactions avec des radicaux organiques, des réactions de décomposition à la surface du verre ou des modifications de la géométrie de surface; (d) un traitement principal, composé des étapes suivantes: expulsion de l'eau à la surface du verre, par exemple au moyen de substances réactives hydrophobes non volatiles ou de substances hydrophobes non volatiles; scellement de la surface par formation d'une pellicule par exposition à des rayons UV ou électroniques et revêtement des surfaces, alors que la couche de scellement superficiel est décomposée en un oxyde métallique par décharge lumineuse ou est activée par décharge lumineuse. Le composant optique nettoyé selon ce procédé sans émission de CFC peut ensuite être traité par application d'une couche de cimentation ou d'antireflet.
États désignés : JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)