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1. (WO1992022085) FENETRE POUR UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA A HYPERFREQUENCES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1992/022085    N° de la demande internationale :    PCT/US1992/004338
Date de publication : 10.12.1992 Date de dépôt international : 22.05.1992
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.12.1992    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US)
Inventeurs : CHEN, Ching-Hwa; (US).
PIRKLE, David; (US).
INOUE, Takashi; (JP).
MIYAHARA, Shunji; (JP).
TANAKA, Masahiko; (JP)
Mandataire : PETERSON, James, W.; Burns, Doane, Swecker & Mathis, George Mason Building, Washington & Prince Streets, P.O. Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404 (US)
Données relatives à la priorité :
705,523 24.05.1991 US
Titre (EN) WINDOW FOR MICROWAVE PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) FENETRE POUR UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA A HYPERFREQUENCES
Abrégé : front page image
(EN)A microwave transmitting window (100) for a plasma processing device characterized by a low microwave reflection factor and capable of generating homogeneous plasma in a stable and effective manner. The window is a body of one or more pieces of the same or different dielectric materials. A surface (100a) of the window facing a microwave transmitting horn (107) or waveguide (106) is planar and extends perpendicularly to an axial direction. An opposite surface (100b) of the window is recessed such that the body has a non-uniform thickness between the two surfaces. The recessed surface can have various shapes, and the overall size of the window can be equal to the size of a plasma formation chamber (104) of the plasma processing device. The outlet of the plasma formation chamber can be formed in an end wall, or the outlet can be formed by the inner periphery of the plasma formation chamber.
(FR)Fenêtre de transmission (100) d'hyperfréquences pour un dispositif de traitement au plasma (1) caractérisée par un faible coefficient de réflexion et capable de générer un plasma homogène de manière stable et efficace. La fenêtre se présente sous forme d'un corps composé d'une ou plusieurs parties du même matériau diélectrique ou de matériaux diélectriques différents. Une surface (100a) de la fenêtre, faisant face à un cornet (107) de transmission d'hyperfréquences ou à un guide d'ondes (106), est de forme plane et s'étend perpendiculairement par rapport à une direction axiale. Une surface opposée (100b) de la fenêtre est en retrait, de sorte que le corps présente une épaisseur non uniforme entre les deux surfaces. La surface en retrait peut présenter des formes différentes, et les dimensions globales de la fenêtre peuvent être équivalentes aux dimensions d'une chambre de formation (104) de plasma du dispositif de traitement au plasma. L'orifice d'évacuation de la chambre de formation de plasma peut être pratiqué dans une paroi terminale, ou cet orifice peut être ménagé dans le pourtour interne de la chambre de formation de plasma.
États désignés : CA.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)