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1. (WO1992021957) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1992/021957    N° de la demande internationale :    PCT/DE1992/000447
Date de publication : 10.12.1992 Date de dépôt international : 02.06.1992
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.12.1992    
CIB :
G01N 21/71 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstraße 54, D-80636 München (DE) (Tous Sauf US).
NOLL, Reinhard [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : NOLL, Reinhard; (DE)
Mandataire : EICHLER, Peter; Brahmsstrasse 29, D-42289 Wuppertal (DE)
Données relatives à la priorité :
P 41 18 518.8 06.06.1991 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG FÜR DIE EMISSIONSSPEKTROSKOPIE
(EN) PROCESS AND DEVICE FOR EMISSION SPECTROSCOPY
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION
Abrégé : front page image
(DE)Verfahren für die Emissionsspektroskopie, insbesondere die Laser-Emissionsspektroskopie, bei dem die von laserinduziertem Plasma des zu analysierenden Werkstoffs emittierte Strahlung (40) von einem Spektrometer (10) zerlegt und zumindest ein Teil des ermittelten Spektrums einer Verarbeitungseinrichtung (31, 45) zur Elementanalyse transferiert wird. Um das Verfahren hinsichtlich der Meßgenauigkeit und der Schnelligkeit zu optimieren, wird es so ausgeführt, daß eine Beeinflussung der Intensität der plasmabildenden Laserstrahlung (2) zur Erzeugung definierter Plasmazustände in Abhängigkeit von zumindest einem emissionsbeeinflussenden Parameter erfolgt, der während der Plasmabildung gemessen wird, und daß der Transfer des ermittelten Spektrums oder eines Teils desselben zur Verarbeitungseinrichtung (31, 45) durchgeführt wird, sofern sich der gemessene Plasmaparameter innerhalb eines vorbestimmten Toleranzbereichs (T¿1?./.T¿2?) befindet.
(EN)Process for emission spectroscopy, especially laser emission spectroscopy, in which the radiation (40) emitted by the laser-induced plasma of the material to be analysed is broken down by a spectrometer (10) and at least one part of the spectrum found is transferred to a processing device (31, 45) for element analysis. In order to obtain the best possible accuracy of measurement and speed in the process, it is conducted in such a way that the intensity of the plasma-forming laser radiation (2) is varied to generate defined plasma states dependently upon at least one emission-influencing parameter which is measured during the formation of the plasma, and the spectrum found or a part thereof is transferred to the processing device (31, 45) provided that the measured plasma parameter lies within a predetermined tolerance range (T¿1? ./. T¿2?).
(FR)Procédé pour la spectroscopie d'émission, en particulier la spectroscopie d'émission laser, dans lequel le rayonnement (40) émis par le plasma, produit par le laser, du matériau à analyser est décomposé par un spectromètre (10), et dans lequel une partie au moins du spectre calculé est transférée à une installation de traitement (31, 45) pour une analyse élémentaire. Pour optimiser le procédé en termes de précision de mesure et de rapidité, celui-ci est exécuté de telle manière qu'il se produise une influence sur l'intensité du rayonnement laser (2) produisant le plasma, permettant d'obtenir des états de plasma déterminés en fonction d'au moins un paramètre influant sur l'émission, paramètre qui est mesuré pendant la formation du plasma, et de telle manière que le transfert du spectre déterminé ou d'une partie de celui-ci à l'installation de traitement (31, 45) s'effectue lorsque le paramètre mesuré du plasma se trouve à l'intérieur d'une plage de tolérance (T¿1?./.T¿2?) déterminée.
États désignés : CA, JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)