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1. (WO1992017898) DISPOSITIF DE GENERATION DE COURTES IMPULSIONS DE FAISCEAU DE PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1992/017898    N° de la demande internationale :    PCT/DE1992/000254
Date de publication : 15.10.1992 Date de dépôt international : 30.03.1992
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.08.1992    
CIB :
H01J 37/04 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstraße 54, D-80636 München (DE) (Tous Sauf US).
HELMREICH, Klaus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
NAGEL, Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MÜLLER-GLASER, Klaus [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HELMREICH, Klaus; (DE).
NAGEL, Peter; (DE).
MÜLLER-GLASER, Klaus; (DE)
Mandataire : MÜNICH, Wilhelm; Münich, Steinmann, Schiller, Willibaldstr. 36, D-8000 München 21 (DE)
Données relatives à la priorité :
P 41 10 194.4 28.03.1991 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG KURZER TEILCHENSTRAHLPULSE
(EN) DEVICE FOR GENERATING SHORT PARTICLE-BEAM PULSES
(FR) DISPOSITIF DE GENERATION DE COURTES IMPULSIONS DE FAISCEAU DE PARTICULES
Abrégé : front page image
(DE)Beschrieben wird eine Vorrichtung zur Erzeugung Kurzes Teilchenstrahlpulse. Die Vorrichtung weist Mittel zur Erzeugung eines kontinuierlichen Teilchenstrahls und insbesondere eines Elektronenstrahls, eine Blende für den Teilchenstrahl, und eine vor der Blende angeordneten Elektrodenanordnung auf, die mindestens zwei parallele elektrisch leitende Leitungen aufweist, und die ein auf den Teilchenstral wirkendes elektrisches Feld erzeugt. Dieses Feld ändert sich zum Erreichen einer großen Änderungsgeschwindigkeit des Ablenkwinkels des Teilchenstrahls in bezug auf den Blendenort in Abhängigkeit vom Eintrittszeitpunkt der Teilchen.
(EN)The device described comprises means for generating a continuous beam of particles, in particular electrons, a shutter for the particle beam and an electrode assembly located in front of the shutter. The electrode assembly has at least two parallel electrically conducting lines and generates an electrical field which acts on the particle beam. This field changes to produce a high rate of change in the angle of deflection of the beam with respect to the shutter location as a function of the time of arrival of the particles.
(FR)Le dispositif comprend des éléments générateurs d'un faisceau de particules continu, notamment d'un faisceau d'électrons, un diaphragme pour le faisceau de particules et un agencement d'électrodes situé devant le diaphragme ayant au moins deux lignes électro-conductrices parallèles qui génèrent un champ électrique qui agit sur le faisceau de particules. Ce champ se modifie jusqu'à atteindre une grande vitesse de modification de l'angle de déviation du faisceau de particules par rapport à l'emplacement du diaphragme en fonction du moment d'entrée des particules.
États désignés : CA, FI, JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)