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1. (WO1992010749) SYSTEME DE DETECTION EN-LIGNE SERVANT A DETERMINER EN TEMPS REEL LA CONCENTRATION D'IMPURETES DANS UN FLUX DE GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1992/010749    N° de la demande internationale :    PCT/US1991/009356
Date de publication : 25.06.1992 Date de dépôt international : 13.12.1991
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.07.1992    
CIB :
G01N 33/00 (2006.01)
Déposants : NOVAPURE CORPORATION [US/US]; 7 Commerce Drive, Danbury, CT 06810 (US)
Inventeurs : TOM, Glenn, M.; (US)
Mandataire : HULTQUIST, Steven, J.; Harlow, Stark, Hultquist, Evans & London, 1000 Park Forty Plaza, P. O. Drawer 13448, Research Triangle Park, NC 27709 (US)
Données relatives à la priorité :
628,490 14.12.1990 US
Titre (EN) IN-LINE DETECTOR SYSTEM FOR REAL-TIME DETERMINATION OF IMPURITY CONCENTRATION IN A FLOWING GAS STREAM
(FR) SYSTEME DE DETECTION EN-LIGNE SERVANT A DETERMINER EN TEMPS REEL LA CONCENTRATION D'IMPURETES DANS UN FLUX DE GAZ
Abrégé : front page image
(EN)An in-line detector system (100) for real-time detection of impurity concentration in a flowing gas stream in which purified and unpurified volumes of gas from the flowing gas stream are subjected to concentration sensing, to determine a corrected impurity concentration value for the flowing gas stream. The system in a preferred embodiment employs a manifold (222) in flow communication with a purifier unit (208), a main flow conduit (202) through which the flowing gas stream is passed, and a sensor port (212), with a selectively positionable valve (230) to flow gas through a purifier loop (210, 224) of the manifold to the sensing port (212), and alternately through a bypass loop (226, 228) of the manifold without passage through the purifier unit, for comparative imputiy sensing of gas in the respective loops. The system may utilize hygrometric sensors in the case of water as a critical impurity, or surface acoustical wave (SAW) devices coated with suitable impurity-affinity coatings. The system has particular utility in monitoring low impurity concentration levels (e.g., from about 0.1 ppm to about 100 ppm) in gas streams employed in vapor-phase processes such as chemical vapor deposition in the manufacture of semiconductor devices.
(FR)Système de détection en-ligne (100) servant à détecter en temps réel la concentration d'impuretés dans un flux de gaz et selon lequel des volumes purifiés et non-purifiés de gaz provenant du flux de gaz sont soumis à une détection de concentration afin de déterminer une valeur corrigée de concentration d'impuretés pour le flux de gaz. Selon un mode préféré de réalisation, le système utilise un distributeur (222) en communication fluide avec une unité de purification (208), un conduit d'écoulement principal (202) à travers lequel passe le flux de gaz, et un orifice de détection (212). Une soupape à positionnement sélectif (230) amène le gaz à s'écouler à travers une boucle de purification (210, 224) du distributeur vers l'orifice de détection (212) et, alternativement, à travers une boucle de dérivation (226, 228) du distributeur sans que le gaz ne passe à travers l'unité de purification, afin que son niveau d'impureté comparative dans les boucles respectives soit détecté. Le système peut utiliser des détecteurs hygrométriques lorsque l'eau représente l'impureté critique, ou des dispositifs à ondes acoustiques de surface (SAW) recouvertes de revêtements à affinité d'impureté appropriés. Le système est particulièrement utile à la surveillance de faibles niveaux de concentration d'impuretés (par exemple de 0,1 à 100 ppm environ) dans des flux de gaz utilisés dans des procédés à phase gazeuse tels que des procédés de dépôt chimique en phase gazeuse utilisés pour la fabrication de dispositifs à semiconducteurs.
États désignés : CA, JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)