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1. WO1992007647 - DISPOSITIF DE REGENERATION D'UN SOLVANT ORGANIQUE

Numéro de publication WO/1992/007647
Date de publication 14.05.1992
N° de la demande internationale PCT/JP1991/001499
Date du dépôt international 01.11.1991
CIB
B01D 12/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
12Déplacement d'un liquide au moyen d'un autre liquide, p.ex. en retirant le liquide de solides humides, ou de dispersions de liquides, ou de solides se trouvant dans des liquides
B01D 53/22 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
53Séparation de gaz ou de vapeurs; Récupération de vapeurs de solvants volatils dans les gaz; Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols
22par diffusion
B01D 61/36 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
61Procédés de séparation utilisant des membranes semi-perméables, p.ex. dialyse, osmose ou ultrafiltration; Appareils, accessoires ou opérations auxiliaires, spécialement adaptés à cet effet
36Pervaporation; Distillation à membranes; Perméation liquide
C23G 5/04 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
GNETTOYAGE OU DÉGRAISSAGE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DES PROCÉDÉS CHIMIQUES NON ÉLECTROLYTIQUES
5Nettoyage ou dégraissage des matériaux métalliques par d'autres méthodes; Appareils pour le nettoyage ou le dégraissage de matériaux métalliques au moyen de solvants organiques
02au moyen de solvants organiques
04Appareils
F26B 21/14 2006.01
FMÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
26SÉCHAGE
BSÉCHAGE DE MATÉRIAUX SOLIDES OU D'OBJETS PAR ÉLIMINATION DU LIQUIDE QUI Y EST CONTENU
21Dispositions pour l'alimentation ou le réglage de l'air ou des gaz pour le séchage d'un matériau solide ou d'objets
14Utilisation de gaz ou de vapeurs autres que l'air ou la vapeur d'eau
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
CPC
B01D 12/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
12Displacing liquid, e.g. from wet solids or from dispersions of liquids or from solids in liquids, by means of another liquid
B01D 53/22
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
53Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols,
22by diffusion
B01D 61/362
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
61Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis, ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
36Pervaporation; Membrane distillation; Liquid permeation
362Pervaporation
C23G 5/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
GCLEANING OR DEGREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
5Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
02using organic solvents
04Apparatus
F26B 21/14
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
26DRYING
BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
21Arrangements ; or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes,; for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
14using gases or vapours other than air or steam ; , e.g. inert gases
F26B 21/145
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
26DRYING
BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
21Arrangements ; or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes,; for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
14using gases or vapours other than air or steam ; , e.g. inert gases
145Condensing the vapour onto the surface of the materials to be dried
Déposants
  • DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • HITACHI, LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • HOECHST JAPAN LIMITED [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • HONDA, Zenjiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • MIHARA, Kazuo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • SHINMURA, Yoshiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • YAMAMOTO, Masashi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • SAKURAI, Toshihiko [JP]/[JP] (UsOnly)
  • SHIRAI, Hideki [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • HONDA, Zenjiro
  • MIHARA, Kazuo
  • SHINMURA, Yoshiro
  • YAMAMOTO, Masashi
  • SAKURAI, Toshihiko
  • SHIRAI, Hideki
Mandataires
  • FURUYA, Kaoru
Données relatives à la priorité
2/29792202.11.1990JP
2/29792302.11.1990JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) DEVICE FOR REGENERATING ORGANIC SOLVENT
(FR) DISPOSITIF DE REGENERATION D'UN SOLVANT ORGANIQUE
Abrégé
(EN)
An organic solvent evaporating tank having pervaporation membrane modules internally fixed thereto for removing water, and a method of regenerating organic solvent using this tank. It is favorably fit to a system for cleaning with vapor of organic solvent and drying semiconductor material after washing it with water. Application of the invention to the above system will contribute to size reduction of said system, promotion of safety, and improvement in quality of semiconductor material.
(FR)
L'invention concerne un réservoir d'évaporation d'un solvant organique, lequel réservoir présente des modules de membrane de pervaporation fixés à l'intérieur et destinés à éliminer l'eau, ainsi qu'un procédé de régénération d'un solvant organique utilisant ce réservoir. Il est particulièrement approprié à un système de nettoyage à la vapeur d'un solvant organique et de séchage de matériau à semi-conducteur après lavage à l'eau. L'application de l'invention au système susmentionné contribue à réduire les dimensions de ce système, à améliorer la sécurité et la qualité du matériau à semi-conducteur.
Également publié en tant que
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