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1. (WO1992002033) SYSTEME A DEFLEXION COMPRENANT UNE PAIRE DE DISPOSITIFS QUADRIPOLAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1992/002033    N° de la demande internationale :    PCT/US1991/005113
Date de publication : 06.02.1992 Date de dépôt international : 19.07.1991
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.02.1992    
CIB :
H01J 29/56 (2006.01), H01J 29/70 (2006.01)
Déposants : RCA LICENSING CORPORATION [US/US]; CN5312, Two Independence Way, Princeton, NJ 08540 (US)
Inventeurs : JOHNSON, Jeffrey, Paul; (US).
GROTE, Michael, Denton; (US)
Mandataire : MELLER, Michael, N.; Meller & Associates, P.O. Box 2198, Grand Central Station, New York, NY 10163 (US)
Données relatives à la priorité :
554,503 19.07.1990 US
Titre (EN) A DEFLECTION SYSTEM WITH A PAIR OF QUADRUPOLE ARRANGEMENTS
(FR) SYSTEME A DEFLEXION COMPRENANT UNE PAIRE DE DISPOSITIFS QUADRIPOLAIRES
Abrégé : front page image
(EN)A deflection apparatus comprising a cathode ray tube includes a pair of quadrupole arrangements (324, 424) for producing a pair of quadrupole fields in a beam path of an electron beam at different distances from a display screen (22'). In an embodiment of the invention, the first and second quadrupole arrangements and a main deflection field producing arrangement (55') cooperate to converge three electron beams, R, G and B, with one another, said quadrupoles being quadrupole doublets.
(FR)Un appareil à déflexion comprenant un tube cathodique comporte une paire de dispositifs quadripolaires (324, 424) produisant une paire de champs quadripolaires sur le trajet d'un faisceau électronique à différentes distances d'un écran de visualisation (22'). Selon un mode de réalisation de l'invention, le premier et le deuxième dispositifs quadripolaires et un dispositif produisant le champ principal de déflexion (55') coopèrent de façon à assurer la convergence de trois faisceaux électroniques (R, G et B), lesdits quadripôles étant des doublets quadripolaires.
États désignés : DE, JP, KR.
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)