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1. (WO1991018322) PROCEDE DE REGULATION DES PROCESSUS DE DEVELOPPEMENT DE PHOTORESERVES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1991/018322    N° de la demande internationale :    PCT/US1991/003494
Date de publication : 28.11.1991 Date de dépôt international : 17.05.1991
CIB :
G03F 7/30 (2006.01)
Déposants : XINIX, INC. [US/US]; 3500-B Thomas Road, Santa Clara, CA 95051 (US)
Inventeurs : THOMSON, Mariste, A.; (US)
Mandataire : BENZ, William, H.; Irell & Manella, 545 Middlefield Road, Suite 200, Menlo Park, CA 94025 (US)
Données relatives à la priorité :
526,639 18.05.1990 US
Titre (EN) METHOD FOR CONTROL OF PHOTORESIST DEVELOP PROCESSES
(FR) PROCEDE DE REGULATION DES PROCESSUS DE DEVELOPPEMENT DE PHOTORESERVES
Abrégé : front page image
(EN)A method for the control of photoresist develop processes employing multiple spray-puddle steps in which process changes other than time, such as endpoint are used to determine the length of the spray and puddle steps.
(FR)L'invention se rapporte à un procédé qui sert à réguler les processus de développement d'une photoréserve et qui utilise à cet effet des étapes multiples d'aspersion et de corroyage, dans lesquelles on apporte aux conditions de traitement de la photoréserve des modifications autres que des modifications de temps, par exemple des modifications du point final, afin de déterminer la durée des étapes d'aspersion et de corroyage.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)