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1. (WO1991017897) APPAREIL DE TRAITEMENT DYNAMIQUE DE TRANCHES DE SEMICONDUCTEURS EN PHASE VAPEUR ET PAR VOLATILISATION DE PARTICULES

Pub. No.:    WO/1991/017897    International Application No.:    PCT/US1991/002956
Publication Date: 28 nov. 1991 International Filing Date: 19 avr. 1991
IPC: G11B 7/26
H01L 21/00
H01L 21/687
Applicants: SEMITOOL, INC.
Inventors: BERGMAN, Eric, J.
REARDON, Timothy, J.
THOMPSON, Raymon, F.
OWCZARZ, Aleksander
Title: APPAREIL DE TRAITEMENT DYNAMIQUE DE TRANCHES DE SEMICONDUCTEURS EN PHASE VAPEUR ET PAR VOLATILISATION DE PARTICULES
Abstract:
Appareils et procédés de traitement amélioré de tranches de semiconducteur (20) et analogue utilisant des agents chimiques de traitement en phase vapeur, notamment des agents de gravure d'acide hydrofluorique aqueux. On produit des mélanges en phase vapeur homogènes à partir de mélanges liquides homogènes. Des moyens de recyclage, de mélange et d'agitation des réactifs de phase liquide (40) sont décrits. Dans certains modes de réalisation il est avantageux de faire circuler la phase liquide dans une tranchée chimique à l'intérieur de la cuvette de traitement (14). On peut réguler l'exposition des tranches à des vapeurs provenant de la tranchée chimique à l'aide d'une vanne de régulation de vapeur avantageusement constituée par la partie inférieure de la chambre de traitement. La tranche est mise en rotation ou autrement déplacée à l'intérieur de la chambre de traitement afin d'assurer une dispersion uniforme des vapeurs de réactifs homogènes sur la surface de la tranche, et afin de faciliter la circulation de vapeurs sur la surface traitée. On peut utiliser un dispositif de traitement par volatilisation radiative afin de volatiliser les produits dérivés de la réaction se fromant dans certaines conditions. Les appareils assurent une gravure uniforme et efficace ne produisant que peu de particules.