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1. (WO1991009148) APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE ET PROCEDE DE FORMATION DE PELLICULES UTILISANT LEDIT APPAREIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1991/009148    N° de la demande internationale :    PCT/JP1990/001601
Date de publication : 27.06.1991 Date de dépôt international : 10.12.1990
CIB :
C23C 14/50 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), C23C 16/46 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6, Kanda Surugadai 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101 (JP) (Tous Sauf US).
OKAMOTO, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Shigeru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMAMURA, Hideaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TSUZUKU, Susumu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHITANI, Eisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KISHIMOTO, Satoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YONEOKA, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKAMOTO, Akira; (JP).
KOBAYASHI, Shigeru; (JP).
SHIMAMURA, Hideaki; (JP).
TSUZUKU, Susumu; (JP).
NISHITANI, Eisuke; (JP).
KISHIMOTO, Satoshi; (JP).
YONEOKA, Yuji; (JP)
Mandataire : ASAMURA, Kiyoshi; Room 331, New Ohtemachi Building, 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100 (JP)
Données relatives à la priorité :
1/318749 11.12.1989 JP
2/225388 29.08.1990 JP
Titre (EN) DEVICE FOR VACUUM TREATMENT AND DEVICE FOR AND METHOD OF FILM FORMATION USING SAID DEVICE
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE ET PROCEDE DE FORMATION DE PELLICULES UTILISANT LEDIT APPAREIL
Abrégé : front page image
(EN)A vacuum treatment device for conducting various treatments of wafers in a vacuum tank and a method of film formation using said device, which is characterized in that temperature control of the wafers during film formation is performed using a radiation thermometer and, in particular, wafers are conveyed to each stage in a vacuum film forming chamber after emissivities thereof are corrected by a temperature correction stage in combination with the shutter, and are temperature-controlled to a fixed temperature to form a film thereon.
(FR)Appareil de traitement sous vide permettant de soumettre à différents traitements des tranches de silicium dans un réservoir sous vide, et procédé de formation de pellicules utilisant ce dispositif, caractérisé par le fait que l'on règle la température des tranches pendant la formation de la pellicule en utilisant un thermomètre à radiation, les tranches étant notamment transportées vers chaque étage dans une chambre de formation de pellicule sous vide, après correction de leurs émittances par un étage de correction de température combiné avec le volet, et leur température est régulée à une valeur définie afin de former une pellicule en surface.
États désignés : DE, KR, US.
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)