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1. (WO1991004213) SYSTEME AUTOMATIQUE DE TRANSPORT DE TRANCHES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1991/004213    N° de la demande internationale :    PCT/US1990/004877
Date de publication : 04.04.1991 Date de dépôt international : 28.08.1990
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    01.04.1991    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : RAPRO TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 47835 Westinghouse Drive, Fremont, CA 94539 (US)
Inventeurs : WONG, Fred; (US).
ZILBERMAN, George, E.; (US).
HOLTKAMP, Wilhelmus, H.; (US)
Mandataire : HAYNES, Mark, A.; Fliesler, Dubb, Meyer and Lovejoy, 4 Embarcadero Center, Suite 400, San Francisco, CA 94111-4156 (US)
Données relatives à la priorité :
406,098 12.09.1989 US
Titre (EN) AUTOMATED WAFER TRANSPORT SYSTEM
(FR) SYSTEME AUTOMATIQUE DE TRANSPORT DE TRANCHES
Abrégé : front page image
(EN)Program control transportation of semiconductor wafers (12) or other substrates among a plurality of reaction chambers (28), (29), (30). The apparatus comprises a cassette loadlock (10) for docking a cassette (11) holding a plurality of wafers (12). A first transfert chamber (14) having a plurality of gates (13), (17), (19), one of which is coupled to the cassette loadlock (10), transfers wafers (12) through the plurality of gates (13), (17), (19). A second transfer chamber (24), has a plurality of gates (23), (25), (26), (27) connected to process stations (28), (29), (30). A staging chamber (20) includes incoming and outgoing staging stations (21), (22) and is connected by gates (19), (23) to the first and second transfer stations (14), (24). There are first and second robotic arms (18), (31) in the first and second transfer chambers (14), (24) to transfer wafers (12) between the loadlock (10), the staging chamber (20), and the process stations (28), (29), (30). A monitor system (36) is mounted with the staging chamber (20). The system is modular and can be expanded both vertically and horizontally.
(FR)Transport commandé par programme de tranches semi-conductrices (12) ou d'autres substrats entre une pluralité de chambres de réaction (28, 29, 30). L'appareil comprend un sas de chargement (10) de cassettes servant à faire entrer une cassette (11) qui contient une pluralité de tranches (12). Une première chambre de transfert (14) possédant une pluralité de portes (13 17 19), dont une est couplée au sas de chargement de cassettes (10), transporte des tranches (12) à travers la pluralité de portes (13, 17, 19). Une deuxième chambre de transfert (24) possède une pluralité de portes (23, 25, 26, 27) reliées à des postes de traitement (28, 29, 30). Une chambre de passage (20) comprend des postes (21, 22) qui servent à faire entrer et sortir les tranches et est reliée par les portes (19, 23) aux premier et deuxième postes de transfert (14, 24). Un premier et un deuxième bras robotiques (18, 31) sont disposés dans les première et deuxième chambres de transfert (14, 24) afin de transporter des tranches (12) entre le sas de chargement (10), la chambre de passage (20) et les postes de traitement (28, 39, 30). Un système de contrôle (36) est monté avec la chambre de passage (20). Le système est modulaire et peut être agrandi verticalement ou horizontalement.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)