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1. (WO1990007254) ELEMENT ELECTROLUMINESCENT A FILM MINCE ET PROCEDE DE FABRICATION DE CET ELEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1990/007254 N° de la demande internationale : PCT/JP1989/001266
Date de publication : 28.06.1990 Date de dépôt international : 15.12.1989
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 13.07.1990
CIB :
H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/28 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
12
Sources de lumière avec des éléments radiants ayant essentiellement deux dimensions
26
caractérisées par la composition ou la disposition du matériau conducteur utilisé comme électrode
28
des électrodes translucides
Déposants :
KABUSHIKI KAISHA KOMATSU SEISAKUSHO [JP/JP]; 3-6, Akasaka 2-chome Minato-ku Tokyo 107, JP (AllExceptUS)
TSURUMAKI, Naoya [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
TSURUMAKI, Naoya; JP
Mandataire :
YONEHARA, Masaaki ; Bansui Bldg. 5-16, Toranomon 1-chome Minato-ku Tokyo 105, JP
Données relatives à la priorité :
63/31630016.12.1988JP
Titre (EN) THIN-FILM ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
(FR) ELEMENT ELECTROLUMINESCENT A FILM MINCE ET PROCEDE DE FABRICATION DE CET ELEMENT
Abrégé :
(EN) Thin-film electroluminescent element preventing the formation by electric breakdown of defective portions where display is impossible, and a method of manufacturing the same. The thin-film EL element is of a double insulating structure and of a type of matrix driving. Transparent electrodes (13) are formed in a transparent and flat insulating film (11) on an insulating and light-transmiting substrate (10). The manufacturing method comprises a step of forming the insulating metal oxide film (11) on the light-transmitting substrate (10), a step of selectively forming metal layers (12) on the surface of the metal oxide film, and a step of forming the transparent electrodes (13) by diffusing these metal layers into the metal oxide film.
(FR) Elément électroluminescent à film mince empêchant la formation par claquage électrique de parties défectueuses où il est impossible de produire un affichage, et procédé de fabrication de cet élément. L'élément EL à film mince présente une structure à double isolation et comporte un circuit d'attaque matriciel. On forme des électrodes transparentes (13) dans un film isolant plat et transparent (11) sur un substrat isolant et translucide (10). Le procédé de fabrication comprend une étape de formation du film en oxyde métallique isolant (11) sur le substrat translucide (10), une étape de formation sélective de couches métalliques (12) sur la surface du film en oxyde métallique, et une étape de formation des électrodes transparentes (13) par diffusion de ces couches métalliques dans le film en oxyde métallique.
États désignés : KR, US
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, ES, FR, GB, IT, LU, NL, SE)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
EP0450077KR1019910700596